Beschreibung der Beschaffung
1 Stück mit der Atomic Layer Etching Anlage (ALE) sollen sowohl monolagengenaue, selbstlimitierende, sequentielle, plasmaunterstützte Atomlagenabtragungen als auch schädigungsarmes physikalisch-chemisches Trockenätzen (ICP-RIE) zur Strukturierung von unterschiedlichsten Materialien durchgeführt werden. Durch das THM Freiberg soll im Zentralen Reinraumlabor (ZRL) der TU Freiberg eine ALE-Anlage mit induktiver Plasmaerzeugung (PEALE — plasma enhanced atomic layer etching) installiert werden. Der Anbau an ein Niedertemperatur-Beschichtungscluster soll gewährleistet sein. Zudem soll die Anlage über alle notwendigen Komponenten zur Durchführung von schädigungsarmen ICP-RIE-Ätzungen sowohl mit Fluorchemie als auch mit Chlor-basierten Prozessen verfügen. Wir wollen unsere Forschung im Bereich Atomlagenätzen im Speziellen von SiO2, High-k, Nitride und III-V Materialien mit einer ISO9001 zertifizierten, 150 mm fähigen PEALE erweitern. Es wird eine in-situ Prozess- und optional eine Endpunktkontrolle gefordert. Optionen: Laser-Interferometer, Emissionsspektrometer,Wartung nach der Gewährleistungszeit.