Für den benötigten Leistungsgegenstand kommt aus technischen Gründen nur oben genannter Lieferant in Frage:
- Der einzige bekannte Ofen, der aufgrund seiner ultrakompakten Baugröße im Labor des HNF am vorgesehenen Platz als Stack installiert werden kann
- Dieser Ofen hat seine Verlässlichkeit bereits in Forschungseinrichtungen kooperierender Institute nachgewiesen.
Das System dieses Lieferanten ist das einzige System, das die folgenden Anforderungen in einer einzige Vakuumkammer kombineren kann:
1. Fünf 2-Zoll-Quellen mit konfokalem Sputtering
2. Eine 3-Zoll-Quelle für direktes Sputtern mit geringem Arbeitsabstand (75 mm)
3. Sechs Elektronenstrahl-Quelle
4. Basisdruck < 5 *10^-9 Torr
5. Substrat Rotation und Erwärmung bis mindestens 800 °C während des Sputterns
6. Substratverkippung während Verdampfung
7. Substratvorspannungs-möglichkeit, sowohl RF als auch DC
Darüber hinaus besteht nur bei diesem System eine
8. Kompatibilität mit dem In-Situ-Tiegelwechsel, ohne dabei eine separate Vakuumkammer zu benotigen und
9. das System bietet eine atmosphärische Kamera mit Display, die auf einem Sichtfenster montiert ist, um eine sichere Betrachtung der Tiegelschmelze während des Beschichtungsprozesses zu ermöglichen.