275992-2023 - ErgebnisDeutschland-München: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
OJ S 89/2023 08/05/2023
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Lieferungen
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1.
Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12
Postanschrift: Hansastraße 27c
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/
I.2.
Informationen zur gemeinsamen Beschaffung
Der Auftrag wird von einer zentralen Beschaffungsstelle vergeben
I.4.
Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: Research Society e. V.
I.5.
Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Research and Development

Abschnitt II: Gegenstand

II.1.
Umfang der Beschaffung
II.1.1.
Bezeichnung des Auftrags
Epitaxie-Anlage EpiLab - PR237391-2610-W
Referenznummer der Bekanntmachung: PR237391-2610-W
II.1.2.
CPV-Code Hauptteil
42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
II.1.3.
Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4.
Kurze Beschreibung
Epitaxie-Anlage EpiLab
II.1.6.
Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7.
Gesamtwert der Beschaffung
Wert ohne MwSt.: 0,01 EUR
II.2.
Beschreibung
II.2.3.
Erfüllungsort
NUTS-Code: DED21 Dresden, Kreisfreie Stadt
Hauptort der Ausführung: Fraunhofer FEP Winterbergstraße 28 01277 Dresden Deutschland
II.2.4.
Beschreibung der Beschaffung
1 piece The Fraunhofer Institute for Organic Electronics, Electron Beam and Plasma Technology FEP (henceforth referred to as FEP) has a number of active projects related to magnetron sputter epitaxy. These projects are funded by government grants as well as internal grants of the Fraunhofer society. The common aim of these projects is to transfer magnetron sputter epitaxy from lab scale to an industrial production technology for semiconductor devices. Magnetron sputter epitaxy is a novel technique that can be used to grow single crystal film stacks on large area silicon wafers. Such a process is in general referred to as epitaxy. Such single crystal film stacks are the basis of many optoelectronic and power electronic devices. Currently the technological development is performed on an existing tool at the FEP. However, this tool is unable to achieve the high degree of film quality and process control required by the semiconductor industry. Moreover, the existing tool does not provide the flexibility for rapidly transferring process from the lab to an industrial scale. Thus, a new epitaxy tool will be procured from the successful bidder (henceforth referred to as capital equipment manufacturer) on this tender to complement the existing tool at the FEP and accelerate the development process. Options: 4.3.1Cooling power of min. 2 kW at 253 K 4.3.2 Cooling fluid suitable for the magnetron sputtering sources offered as part of EpiLab (cf. section 4.1) 4.4.1Duration of 24 months 4.5.1Rated for class ISO 6 cleanroom 4.5.2 All components that will enter room EE014 (cf. section 1.6)
II.2.5.
Zuschlagskriterien
Qualitätskriterium - Name: Technical Description / Gewichtung: 60,00
Preis - Gewichtung: 40,00
II.2.11.
Angaben zu Optionen
Optionen: ja
Beschreibung der Optionen:
4.3.1 Cooling power of min. 2 kW at 253 K 4.3.2 Cooling fluid suitable for the magnetron sputtering sources offered as part of EpiLab (cf. section 4.1) 4.4.1 Duration of 24 months 4.5.1 Rated for class ISO 6 cleanroom 4.5.2 All components that will enter room EE014 (cf. section 1.6)
II.2.13.
Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14.
Zusätzliche Angaben
Das Projekt wird mit Haushaltsinternen Mitteln finanziert.

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1.
Beschreibung
IV.1.1.
Verfahrensart
Offenes Verfahren
IV.1.3.
Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8.
Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
IV.2.
Verwaltungsangaben
IV.2.1.
Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2023/S 010-023763
IV.2.8.
Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems
IV.2.9.
Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 1
Bezeichnung des Auftrags:
Epitaxie-Anlage EpiLab
Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja
V.2.
Auftragsvergabe
V.2.1.
Tag des Vertragsabschlusses
28/04/2023
V.2.2.
Angaben zu den Angeboten
Anzahl der eingegangenen Angebote: 2
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 2
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 2
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3.
Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde
Offizielle Bezeichnung: Polyteknik AS
Postanschrift: Moellegade 21
Ort: Oetervraa
NUTS-Code: DK Danmark
Postleitzahl: 9750
Land: Dänemark
E-Mail: sales@polyteknik.dk
Telefon: +45 96892800
Fax: +45 96892800
Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja
V.2.4.
Angaben zum Wert des Auftrags/Loses
Gesamtwert des Auftrags/Loses: 0,01 EUR
V.2.5.
Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3.
Zusätzliche Angaben
VI.4.
Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1.
Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung: VERGABEKAMMER
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland
VI.4.4.
Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt
Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Postanschrift: Hansastraße 27c
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de
VI.5.
Tag der Absendung dieser Bekanntmachung
04/05/2023