Photolithography mask / reticle for MPW-Service and Research

Das IHP bietet verschiedene SiGe-BiCMOS Technologien für ein Multi-Wafer Programm (MPW) an.

Pro Jahr bestellt das IHP ungefähr 300 Einzelmasken mit verschiedenen Anforderungen/Spezifikationen. Abhängig von den Anforderungen nutzt das IHP Multi-Ebenen-Photomasken für seine Maskensätze.

Das IHP bietet verschiedene SiGe-BiCMOS Technologien für ein Multi-Wafer Programm (MPW) an.

Pro Jahr bestellt das IHP ungefähr 300 Einzelmasken mit verschiedenen Anforderungen / Spezifikationen. Abhängig von den Anforderungen nutzt das IHP Multi-Ebenen-Photomasken für seine Maskensätze.

Bevor das IHP die Masken in die Produktion von Wafern überführen kann, müssen die Maskenanbieter eine Bewertungsprozedur / Evaluierung durchlaufen.

(siehe unten).

Bewertungskriterien:

1) Der Photomaskenanbieter hat die Anforderungen bezüglich der Maskenqualität zu erfüllen, welche im Dokument „IHP_mask_requirements.pdf“ aufgeführt sind;

2) Für die Evaluierung sollte der Maskenlieferant 4 Photomasken mit kritischen Maskenebenen für einen feststehenden MPW-Durchlauf bereitstellen.

Diese kritischen Maskenebenen sind beschrieben in „IHP_mask_requirements.pdf“. Das IHP wird bestimmte / dedizierte Wafer mit entsprechenden Maskenebenen prozessieren und die Qualität hinsichtlich folgender Merkmale prüfen:

a) Messungen von photolithographischen Kontrollstrukturen;

b) Messungen von elektrischen PKM (Prozess-Kontroll-Monitore) Strukturen;

c) Evaluierung der Ausbeute.

3) Die Evaluierungsergebnisse werden mit den Maskenanbietern ausgetauscht.

Nach einer erfolgreichen Evaluierung von verschiedenen Masken-Anbietern wird das IHP einen Rahmenvertrag mit mindestens 2 Lieferanten für eine Periode von 2 Jahren mit der Option einer Verlängerung von 2 Jahren abschließen.