Kurze Beschreibung
Mask Aligner für optische Fotolithografie und Nanoimprint-Lithografie
Die Beschaffung eines Mask Aligners soll Lithographie für Strukturgrößen von ca. 1,0 Mikrometer, für ausgewählte Strukturen auch darunter, ermöglicht werden. Speziell für die Nanostrukturierung soll der Mask-Aligner zudem eine Option für Nanoimprint-Lithografie vorsehen. Um den Gebrauch von Quecksilberdampflampen zu vermeiden, soll hier eine LED-Lichtquelle zum Einsatz kommen.
Weitere Informationen und Anforderungen entnehmen Sie bitte der Leistungsbeschreibung unter dem Punkt "Vergabeunterlagen".