433387-2021 - ErgebnisDeutschland-Jena: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
OJ S 166/2021 27/08/2021
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Lieferungen
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1.
Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung: Leibniz-Institut für Photonische Technologien
Postanschrift: Albert-Einstein-Straße 9
Ort: Jena
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 07745
Land: Deutschland
E-Mail: ipht-ausschreibungen@leibniz-ipht.de
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.leibniz-ipht.de
I.4.
Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: eingetragener Verein, Mitglied der Leibniz-Gemeinschaft
I.5.
Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1.
Umfang der Beschaffung
II.1.1.
Bezeichnung des Auftrags
Kombinierte ALD-PVD/CVD-Beschichtungsanlage als Clustertool
Referenznummer der Bekanntmachung: 02.21.O.00
II.1.2.
CPV-Code Hauptteil
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
II.1.3.
Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4.
Kurze Beschreibung
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine Beschichtungsanlage für die Abscheidung von metallischen sowie dielektrischen und nitridischen Schichten aus.
Die ausgeschriebene Anlage soll zur Schichtabscheidung von ein- und mehrlagigen Funktionsmaterialien mit Schichtdicken von 1 nm bis 5 µm eingesetzt werden, welche ohne Vakuumunterbrechung insitu hergestellt werden können.
Als Prozesse müssen in dieser Anlage ALD-Verfahren (Atomlagenabscheidung, auch plasmagestützt als PE-ALD) und PVD-Verfahren (physikalische Gasphasenabscheidung, Bedampfung) für Beschichtungen von diversen Funktionsschichten mit Schichtdicken (ds) von 1nm ≤ ds ≤ 500 nm, zur Verfügung stehen. Es ist zudem gefordert, SiO2, SixNy und SiOxNy auch mit höheren Wachstumsraten (GR≥10 nm/min) als die üblichen ALD-Verfahren, pinholefrei und für Schichtdicken (ds) im Bereich von 100 nm ≤ ds ≤ 5 µm zu realisieren.
II.1.6.
Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7.
Gesamtwert der Beschaffung
Wert ohne MwSt.: 1 086 937,00 EUR
II.2.
Beschreibung
II.2.3.
Erfüllungsort
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
II.2.4.
Beschreibung der Beschaffung
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt eine Beschichtungsanlage für die Abscheidung von metallischen sowie dielektrischen und nitridischen Schichten aus.
Die ausgeschriebene Anlage soll zur Schichtabscheidung von ein- und mehrlagigen Funktionsmaterialien mit Schichtdicken von 1 nm bis 5 µm eingesetzt werden, welche ohne Vakuumunterbrechung insitu hergestellt werden können.
Als Prozesse müssen in dieser Anlage ALD-Verfahren (Atomlagenabscheidung, auch plasmagestützt als PE-ALD) und PVD-Verfahren (physikalische Gasphasenabscheidung, Bedampfung) für Beschichtungen von diversen Funktionsschichten mit Schichtdicken (ds) von 1nm ≤ ds ≤ 500 nm, zur Verfügung stehen. Es ist zudem gefordert, SiO2, SixNy und SiOxNy auch mit höheren Wachstumsraten (GR≥10 nm/min) als die üblichen ALD-Verfahren, pinholefrei und für Schichtdicken (ds) im Bereich von 100 nm ≤ ds ≤ 5 µm zu realisieren.
II.2.5.
Zuschlagskriterien
Qualitätskriterium - Name: technische Spezifikationen / Gewichtung: 75%
Preis - Gewichtung: 25%
II.2.11.
Angaben zu Optionen
Optionen: ja
Beschreibung der Optionen:
6 Optionen (Bitte separat auspreisen)
PE-ALD Modul:
- Zweiter Satz Liner
- Arbeitsdruckregelung mittels Drosselventil
- Prozessieren durch thermische ALD
- Ellipsometrieanalysepaket
- Absorbersäule zur umweltgerechten Abluftaufbereitung
- Temperaturerweiterungspaket für Substrattisch bis maximal 650 °C
PVD Modul:
- Heizung des Substrattisches ≥ 300 °C
Alternatives PECVD-Modul:
- HF-Bias Ausrüstung (HF-Generator mit Match Box)
- Endpunktdetektor (Laserinterferometer) mit angepasster Koppelplatte und Sichtfenster
- Zweiter Satz Liner
II.2.13.
Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14.
Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1.
Beschreibung
IV.1.1.
Verfahrensart
Offenes Verfahren
IV.1.3.
Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8.
Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein
IV.2.
Verwaltungsangaben
IV.2.1.
Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 126-331236
IV.2.8.
Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems
IV.2.9.
Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 2120162/295301
Bezeichnung des Auftrags:
Kombinierte ALD-PVD/CVD-Beschichtungsanlage als Clustertool
Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja
V.2.
Auftragsvergabe
V.2.1.
Tag des Vertragsabschlusses
23/08/2021
V.2.2.
Angaben zu den Angeboten
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3.
Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde
Offizielle Bezeichnung: Sentech GmbH
Postanschrift: Konrad-Zuse-Bogen 13
Ort: Krailling
NUTS-Code: DE21L Starnberg
Postleitzahl: 82152
Land: Deutschland
Der Auftragnehmer ist ein KMU: nein
V.2.4.
Angaben zum Wert des Auftrags/Loses
Gesamtwert des Auftrags/Loses: 1 086 937,00 EUR
V.2.5.
Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3.
Zusätzliche Angaben
VI.4.
Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1.
Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Postanschrift: Weimarplatz 4
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
VI.5.
Tag der Absendung dieser Bekanntmachung
23/08/2021