Beschreibung der Beschaffung
Auftragsgegenstand ist ein Massenspektrometriesystem mit den folgenden Komponenten:
-Leitsystem ist ein ICP-MS/MS mit drei Quadrupolen zur Elementanalyse von bulk-Proben und Einzelpartikeln im Nanometerbereich:
• Die Steuerungssoftware des Leitsystems ICP-MS/MS sowie der Untereinheiten HPLC-MS/MS und GC-MS/MS müssen auf derselben Software-Plattform aufgebaut sein. Dies ist nötig, um die Chromatographiesysteme auch über die ICP-Software zu steuern und die Datenauswertung von Analyseanwendungen bestehend aus organischen und anorganischen Komponenten qualitativ und quantitativ auszuführen.
• Das System muss aus drei Quadrupolen bestehen, von denen einer eine Kollision- und Reaktionszelle darstellt und auch als Multipol ausgeführt sein kann. Das ist notwendig, um polyatomare Störungen effektiv zu beseitigen.
• Die Auflösung beider Quadrupol-Massefilter (Q1 und Q3) muss zwischen 0,3 und 0,8 amu liegen, um eine effektive Trennung der Ionen vor und nach der Kollision- und Reaktionszelle und somit eine verbesserte Sensitivität und Selektivität zu ermöglichen.
• Beide Quadrupol-Massefilter (Q1 und Q3) müssen im selben Vakuumbereich betrieben werden, um eine Isotopenvermischung beim Einsatz reaktiver Gase zu verhindern.
• Das ICP-MS/MS muss mit einem zugelassenen, freilaufenden 27MHz RF Generator ausgestattet sein und ein geerdetes Plasma besitzen.
• Die Abundance Sensitivität im MS/MS Modus muss <10^-10 sein, um Einflüsse von benachbarten Isotopen und Elementen so gering wie möglich zu halten.
• Das System muss über eine Peltier gekühlten Double-Pass Sprühkammer verfügen um physikalische Effekte und Dampfdrücke bei der Zerstäubung zu reduzieren.
• Das System muss über eine online Argon-Gasverdünnung verfügen, welche eine direkte Injektion von bis zu 25% TDS (Total Dissolved Solids) in der Lösung ohne jegliche Vorverdünnung ermöglicht. Die Argon Gasverdünnung muss für die einfache Benutzung auch im Auto-Tune integriert sowie stufenweise regelbar sein.
• Die Photonen und Neutralteilchen sind durch eine mindestens doppelte Umlenkung, die sich außerhalb des Hochvakuums aber vor dem Gate-Valve befindet, abzutrennen, um die Verschmutzung zu minimieren.
• Das ICP-MS/MS muss im Standard no-Gas Tuning Modus eine CeO/Ce-Rate von <1.5% erreichen, um robuste Plasma-Bedingungen für wechselnde Salzlast zu gewährleisten und Oxid-basierten Untergrund zu minimieren. Im He-Modus muss die CeO/Ce-Rate bei jedenfalls <0.3% liegen um optimale Nachweisgrenzen im He-Modus zu gewähren.
• Das ICP-MS/MS System muss für die Bestimmung von Nanopartikeln ausgelegt sein sowie eine automatische Untergrundanpassung und Screeningfunktion von Nanopartikeln von mind. 15 Elementen ermöglichen.
• Responsefaktor für Au muss > 300.000 cps/ppb, die Dwell time ≥ 0,1 ms sein
• Alle Kriterien sind durch technische Leistungsblätter bzw. Applikationsnoten zu belegen
- HPLC-MS/MS Einheit (Triple Quad):
• inkl. Poroshell HPLC-Säule 120 EC-C18 3,0x150mm, 2,7 µm
• Geräteempfindlichkeit für Reserpin muss < 4 fg bzw. <4 ppt sein.
• Massenauflösung muss mind. 5-3000 m/z sein.
• Minimale Dwell time muss mind. 0,5 ms und die Polarity Switch Speed mind. <25ms betragen
• Scan Speed muss mind. 17000 Da/s betragen.
• Collision Cell Clearance Time muss < 0,5 ms sein.
• max. HPLC-Systemdruck mind. 800 bar
- GC-MS/MS Einheit (Triple Quad):
• Multimode-Einlass, flüssig N2 oder Luftkühlung
• Midpoint-Backflush inkl. Kollisionszelle
• Helium-Sparmodul
• Wasserstoff-Sensormodul zur Überwachung des Wasserstoffgehalts im Ofen inkl. Abschaltung
• MS/MS Mainframe
• Elektronenstoßionisation (EI-) und Chemische Ionisations (CI-)Quelle
• inkl. Säule und Liner zum Nachweis von PAK, z.B. DB-EUPAH 20m, 0,18mm, 0,14um
• PAK Prüfstandard
• Extraktionslinsen 6mm und 9mm
• 2 Hochtemperatur EI-Filamente
• 2 CI-Filamente
• Empfindlichkeit für Octafluornaphthalin (OFN) muss ≤ 4fg (2 fg injiziert) sein.
• Massenauflösung mind. von 10-1000 m/z r.
• Minimale Dwell time mind. 0,5 ms.
• Scan Speed mind. ≤20000 Da/s