Für die Erfüllung der Projektarbeiten im Teilprojekt zu Photon-Q ist die Anschaffung eines hochauflösenden Feldemissions-Rasterelektronenmikroskop für anspruchsvolle, abbildungsorientierte Anwendungen zwingend notwendig.
Dabei muss das System ein schädigungsarmes Abbilden kleinster Strukturen mit höchster Detailschärfe und multipler simultaner Signalerfassung haben.
Das System muss die folgenden Eigenschaften und Spezifikationen aufweisen:
1. Das System muss über magnetische Immersions-Objektivlinsen kombiniert mit einem Doppel-Kondensor-Linsensystem ohne säulen-interne Strahl-Nachbeschleunigung verfügen. Das System muss also ohne Booster-Elektronenoptik ausgestattet sein.
2. Das System muss über einen kalten Feldemitter mit W single crystal Kathodenmaterial verfügen. Dabei muss der Quellen-Durchmesser typisch 5 nm und die Energiebreite 0.3 eV haben.
3. Das System muss eine fein abgestufte Auswahl des Probenstroms im Bereich von 1pA bis 20nA haben, ohne Notwendigkeit den Optik-Modus bei höheren Probenströmen zu wechseln.
4. Das System muss ein 3-stufiges Detektionssystem in der Elektronensäule mit separaten Energiefiltern für die folgenden unterschiedliche Betriebsmodi haben:
- reines SE Signal <50eV
- inelastisch rückgestreutes Signal mit der Möglichkeit, in feinen Schritten von -0.15 eV bis zu max -150 eV die Energie-Untergrenze des empfangenen Signals festzulegen
- inelastisch rückgestreutes Signal mit höheren Abnahmewinkeln
- elastisch rückgestreutes Signal mit der Möglichkeit der Energiefilterung
5. Das System muss simultane live Darstellung von bis zu 6 Signalen erlauben, sowie deren gleichzeitige Speicherung in separaten Dateien besitzen.
6. Die euzentrische Probenbühne muss 110mm x 110mm X,Y Verfahrweg, 360° Rotation, bis 70° Kippung haben.
Nur der Anbieter Hitachi High-Tech Europe GmbH kann alle oben genannten für die Forschung notwendigen Mindestanforderungen erfüllen.