Beschreibung der Beschaffung
Das benötigte Gerät ist ein Stand-Alone Modell, da kein weiteres UHV-System derzeit in der Gruppe vorhanden ist. Es soll eine weitgehend kompakte Bauweise mit einer zu beanspruchenden Gesamtfläche von bis zu 8 m2 besitzen.
Die in der Anlage darzustellenden Schichten umfassen Oxide, Kohlenstoffmaterialien sowie Halogenide und in geringem Umfang auch Tetrele (Silizide), Chalkogenide (Selenide) und Metalle. Dabei benötigen Oxide und Kohlenstoffmaterialien gewisse Leistungsmerkmale bezüglich der zu erreichenden Substrat-Temperatur von bis zu ca. 1000 °C für eine Substrat-Fläche von bis zu 10 mm x 10 mm. Dies kann sowohl über einen Pt-Heizer als auch über Laser-basierte Heizungen erreicht werden.