Beschreibung der Beschaffung
Zur Bearbeitung der durch die AMO durchgeführten Forschungsprojekte ist eine Erweiterung des bestehenden Anlagenparks und zur Ergänzung der bereits vorhandenen Raith EBPG 5200 Elektronenstrahllithographieanlage um ein Elektronenstrahllithographiesystem mit einer maximalen Beschleunigungsspannung von 30 kV notwendig.
Da die Anlage kurzfristig benötigt wird, ist eine zeitnahe Lieferung gewünscht. Die zu beschaffende Anlage soll sich möglichst nahtlos in den bestehenden Anlagenpark sowie die bisher zur Elektronenstrahllithogrpahie genutzten Softwareumgebungen integrieren lassen. Neben der Nutzung als Lithographiesystem muss die zu beschaffende Anlage auch als Rasterelektronenmikroskop genutzt werden können.
Zudem soll die Anlage geeignet sein die AMO bei der Ausbildung des wissenschaftlichen Nachwuchses, insbesondere von Doktorandinnen und Doktoranden, zu unterstützen.
Die aus diesem Anforderungsprofil erwachsenden Spezifikationen können der Leistungsbeschreibung entnommen werden.