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1. Beschaffer
1.1.
Beschaffer
Offizielle Bezeichnung: Technische Universität Wien
Rechtsform des Erwerbers: Einrichtung des öffentlichen Rechts
Tätigkeit des öffentlichen Auftraggebers: Bildung
2. Verfahren
2.1.
Verfahren
Titel: Aufdampfanlage (PVD)
Beschreibung: Aufdampfanlage (PVD)
Kennung des Verfahrens: 3072470c-e32f-475b-b5a7-e89aae418237
Interne Kennung: 26300.02-095-2026
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb
2.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferleistungen
Haupteinstufung (cpv): 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
2.1.4.
Allgemeine Informationen
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU
5. Los
5.1.
Los: LOT-1727
Titel: Aufdampfanlage (PVD)
Beschreibung: Aufdampfanlage (PVD)
Interne Kennung: 2630002092026
5.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferleistungen
Haupteinstufung (cpv): 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
5.1.2.
Erfüllungsort
Land, Gliederung (NUTS): Wien (AT130)
Land: Österreich
5.1.3.
Geschätzte Dauer
Datum des Beginns: 24/08/2026
Laufzeit: 3 Monate
5.1.6.
Allgemeine Informationen
Auftragsvergabeprojekt nicht aus EU-Mitteln finanziert
Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen: ja
5.1.16.
Weitere Informationen, Schlichtung und Nachprüfung
Überprüfungsstelle: Bundesverwaltungsgericht
6. Ergebnisse
Wert aller in dieser Bekanntmachung vergebenen Verträge: 295 000,00 EUR
Direktvergabe:
Begründung der Direktvergabe: Der Auftrag kann nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden, da aus technischen Gründen kein Wettbewerb vorhanden ist
Sonstige Begründung: Das Institut für Mikroelektronik der TU Wien ist ein weltweit anerkanntes Forschungszentrum im Bereich der Halbleiterelektronik. Forschungsschwerpunkte umfassen die Erforschung von Alterungsprozessen in Halbleitertransistoren sowie die Entwicklung neuartiger Bauelementstrukturen, insbesondere auf der Basis von 2D-Materialien. Für die Herstellung von Prototypen dieser neuartigen Bauelemente ist die präzise Abscheidung dünner Schichten verschiedener Materialien mittels physikalischer Gasphasenabscheidung (PVD) ein fundamentaler und unverzichtbarer Prozessschritt. Um in aktuellen Forschungsfragen wettbewerbsfähig zu bleiben und die Laborinfrastruktur den sich ständig weiterentwickelnden Forschungsanforderungen anzupassen, plant das Institut die Anschaffung eines hochflexiblen, modularen PVD-Systems. Die genaue Konfiguration des Systems wurde unter Berücksichtigung verschiedener, für unsere Forschung essenzieller Auswahlkriterien ermittelt, die in ihrer Kombination nur von dem angebotenen System erfüllt werden: • Maximale Modularität und Zukunftssicherheit: Forschungsanforderungen ändern sich schnell. Das angebotene Korvus-System basiert auf einer einzigartigen, vollständig modularen Kammerarchitektur mit abnehmbaren Paneelen. Dies erlaubt es uns als Anwendern, die Position, Anzahl und Art der Depositionsquellen jederzeit selbstständig und kosteneffizient, d.h. ohne teure Serviceeinsätze, zu ändern. Diese Fähigkeit, das System eigenständig an zukünftige, heute noch nicht absehbare Projekte anzupassen, ist ein entscheidendes Alleinstellungsmerkmal gegenüber monolithisch aufgebauten Systemen. Dies schließt explizit die Möglichkeit einer späteren, einfachen Nachrüstung mit Magnetron-Sputterquellen ein, was das System zukunftssicher macht und teure, herstellergebundene Umbauten vermeidet. • Spezifische Quellenkonfiguration für komplexe Schichtsysteme: Unsere Forschung erfordert die Herstellung von präzise kontrollierten Dünnschichtsystemen aus unterschiedlichen Materialien in einem einzigen Abscheidezyklus. Das System muss daher mit zwei thermischen Verdampferquellen sowie einer Elektronenstrahlverdampferquelle mit vier einzelnen Taschen (4-Pocket) ausgestattet sein. Diese Konfiguration ist zwingend erforderlich, um die Co-Deposition von verschiedenen Dielektrika und Fluoriden zu ermöglichen und unmittelbar danach Metallkontakte abscheiden zu können, ohne das Vakuum zu brechen und die empfindlichen Schichten zu kontaminieren. • Langlebigkeit und spezifische Hardware-Kompatibilität: • Die Prozesskammer muss aus Edelstahl gefertigt sein, um die Langlebigkeit des Systems auch bei der Abscheidung von potenziell korrosiven Materialien wie Fluoriden zu gewährleisten. • Vakuumpumpen (Haupt-, Vor- und Load-Lock-Pumpen) sowie Vakuummesszellen müssen ausschließlich vom Hersteller Pfeiffer stammen. Mit diesen Komponenten haben wir am Institut durchweg positive Erfahrungen hinsichtlich Langlebigkeit und Wartbarkeit gemacht. • Die Turbomolekularpumpe für die Hauptkammer muss seitlich an der Kammer montiert sein, um die Langlebigkeit der Pumpe sicherzustellen, eine Anforderung, die das modulare Design des angebotenen Systems erfüllt. • Hoher Probendurchsatz durch integriertes Load-Lock-System: Um eine hohe Arbeitseffizienz und den schnellen Durchsatz vieler Proben zu gewährleisten, ist ein separates Load-Lock-System mit eigener Vakuumerzeugung unverzichtbar. Dies ermöglicht den Probenwechsel in wenigen Minuten, ohne das Vakuum der Hauptkammer brechen zu müssen, was die Zykluszeiten drastisch reduziert und die Reinheit der Kammer erhält. • Substrat- und Prozessflexibilität: Das System muss Substrate bis zu einer Größe von 6 Zoll (150 mm) verarbeiten können und über einen rotierenden Probentisch mit Heizung bis mindestens 500 °C verfügen, um die Schichtqualität zu optimieren. Das angebotene System erfüllt dies (Heizung bis 600 °C). • Präzise Prozesssteuerung: Für reproduzierbare Ergebnisse ist eine umfassende Prozesskontrolle notwendig. Dies beinhaltet: • Einen bewährten Inficon Quarzschwing-Monitor (QCM) zur präzisen In-situ-Messung von Raten und Schichtdicken. • Separate, motorisierte und softwaregesteuerte Shutter für den Probentisch, einen QCM-Sensor für jede einzelne Depositionsquelle (beide thermischen Verdampfer und die E-Beam-Quelle). Dies ist essenziell für die exakte Definition von Schichtdicken und die Herstellung scharfer Grenzflächen. • Automatisierung und offene Software-Architektur: Für reproduzierbare Ergebnisse ist eine vollautomatisierte Prozesssteuerung unerlässlich. Die Systemsoftware muss die Programmierung komplexer Rezepte sowie die Protokollierung aller Parameter ermöglichen. Ein wesentliches Kriterium ist die Fähigkeit der Software, auch Komponenten von Drittanbietern zu integrieren, was eine maximale Flexibilität für zukünftige Mess- und Steuerungstechnik gewährleistet. • Hochvakuumbedingungen und Gaszuleitung: Für die Abscheidung hochwertiger Schichten ist ein Basisdruck von < 1x10⁻⁶ mbar erforderlich. Das System muss zudem über eine separate Gaszuleitung mit Massenflussreglern (MFCs) verfügen. • Anwenderfreundlichkeit und Wartung: Die Depositionsquellen müssen für Materialwechsel oder Wartung schnell und ohne Spezialwerkzeug zugänglich sein. Die seitlich montierten Quellen des Korvus-Systems können sehr einfach (innerhalb weniger Minuten) ausgetauscht werden. Dies minimiert die Ausfallzeiten und Betriebskosten erheblich, da somit keine externen Servicetechniker für den Tausch beauftragt werden müssen. • Kompakte Stellfläche: Die verfügbare Laborfläche ist begrenzt. Das Gesamtsystem darf die Maße von circa 1400 x 850 x 1600 mm nicht wesentlich überschreiten. Das angebotene HEX-L-System erfüllt diese strikte Anforderung und ermöglicht so die Integration in unsere bestehende Infrastruktur.
6.1.
Ergebnis, Los-– Kennung: LOT-1727
6.1.2.
Informationen über die Gewinner
Wettbewerbsgewinner:
Offizielle Bezeichnung: KORVUS TECHNOLOGY LTD
Angebot:
Kennung des Angebots: 26300.02-095-2026
Kennung des Loses oder der Gruppe von Losen: LOT-1727
Wert des Angebots: 295 000,00 EUR
Das Angebot wurde in die Rangfolge eingeordnet: ja
Vergabe von Unteraufträgen: Nein
Informationen zum Auftrag:
Kennung des Auftrags: 26300.02-095-2026
Titel: Aufdampfanlage (PVD)
Datum der Auswahl des Gewinners: 21/08/2026
8. Organisationen
8.1.
ORG-7537
Offizielle Bezeichnung: Technische Universität Wien
Registrierungsnummer: 9110007633536
Abteilung: E360 - Institut für Mikroelektronik
Postanschrift: Gußhausstraße 27-29
Stadt: Wien
Postleitzahl: 1040
Land, Gliederung (NUTS): Wien (AT130)
Land: Österreich
Kontaktperson: Univ.Prof. Michael Waltl
Telefon: +43 15880136050
Rollen dieser Organisation:
Beschaffer
8.1.
ORG-7353
Offizielle Bezeichnung: Bundesverwaltungsgericht
Registrierungsnummer: 9110008059823
Postanschrift: Erdbergstraße 192-196
Stadt: Wien
Postleitzahl: 1030
Land, Gliederung (NUTS): Wien (AT130)
Land: Österreich
Telefon: +43 160149
Rollen dieser Organisation:
Überprüfungsstelle
8.1.
ORG-7840
Offizielle Bezeichnung: KORVUS TECHNOLOGY LTD
Registrierungsnummer: 0
Stadt: BUCKS
Postleitzahl: HP12 3PS
Land, Gliederung (NUTS): Berkshire (UKJ11)
Land: Vereinigtes Königreich
Telefon: +44 1280852096
Rollen dieser Organisation:
Bieter
Gewinner dieser Lose: LOT-1727
Der Gewinner ist auf einem geregelten Markt notiert
Informationen zur Bekanntmachung
Kennung/Fassung der Bekanntmachung: 3c1d4dc0-e7a7-4441-a912-79f69fe4e1f5 - 01
Formulartyp: Vorankündigung – Direktvergabe
Art der Bekanntmachung: Freiwillige Ex-ante-Transparenzbekanntmachung
Unterart der Bekanntmachung: 25
Datum der Übermittlung der Bekanntmachung: 21/08/2026 14:14:00 (UTC+02:00) Osteuropäische Zeit, Mitteleuropäische Sommerzeit
Sprachen, in denen diese Bekanntmachung offiziell verfügbar ist: Deutsch
Veröffentlichungsnummer der Bekanntmachung: 582069-2026
ABl. S – Nummer der Ausgabe: 162/2026
Datum der Veröffentlichung: 24/08/2026