61637-2022 - ErgebnisDeutschland-Jena: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
OJ S 25/2022 04/02/2022
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Lieferungen
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1.
Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung: Leibniz-Institut für Photonische Technologien
Postanschrift: Albert-Einstein-Straße 9
Ort: Jena
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 07745
Land: Deutschland
E-Mail: ipht-ausschreibungen@leibniz-ipht.de
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.leibniz-ipht.de
I.4.
Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: eingetragener Verein, Mitglied der Leibniz-Gemeinschaft
I.5.
Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1.
Umfang der Beschaffung
II.1.1.
Bezeichnung des Auftrags
Los 1 - Mask Aligner
Referenznummer der Bekanntmachung: 08.21.O.01
II.1.2.
CPV-Code Hauptteil
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
II.1.3.
Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4.
Kurze Beschreibung
Die Ausschreibung "08.21.O.01 / Los 1 - Mask Aligner" stellt Los 1 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar.
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende Photomasken mittels UV-Licht eingesetzt werden soll. Weiterhin soll der Mask Aligner für die Vorder- und Rückseitenbelichtung/-justage von diversen Substraten sowie für Flutbelichtungen nutzbar sein.
II.1.6.
Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7.
Gesamtwert der Beschaffung
Wert ohne MwSt.: 229 706,00 EUR
II.2.
Beschreibung
II.2.3.
Erfüllungsort
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
II.2.4.
Beschreibung der Beschaffung
Die Ausschreibung "08.21.O.01 / Los 1 - Mask Aligner" stellt Los 1 von 3 Ausschreibungen des Forschungsprojektes "Ausbau der photolithographischen Basisinfrastruktur am Leibniz-IPHT (InfraLith)" dar.
Das Leibniz-Institut für Photonische Technologien e.V. schreibt einen Mask Aligner aus, welcher zur Belichtung von Photoresistschichten durch entsprechende Photomasken mittels UV-Licht eingesetzt werden soll. Weiterhin soll der Mask Aligner für die Vorder- und Rückseitenbelichtung/-justage von diversen Substraten sowie für Flutbelichtungen nutzbar sein.
II.2.5.
Zuschlagskriterien
Qualitätskriterium - Name: technische Spezifikationen / Gewichtung: 60%
Preis - Gewichtung: 40%
II.2.11.
Angaben zu Optionen
Optionen: ja
Beschreibung der Optionen:
Folgende Optionen sollen mit angeboten werden und sind separat zu auszupreisen:
Technik:
• Regelbares Ansaugvakuum für das Handling von Wafern mit Membranen,
• Ersatzteil-Kit für Verschleißteile, zur Vermeidung von Ausfallszeiten,
• Ermittlung der optimalen Belichtungsdosis in mindestens 6 Stufen - ohne Entnahme des Substrates und der Maske,
• UV-Sensor für Wellenlänge 400 nm zur Referenzermittlung.
Optikzubehör:
• 10-fach Objektive für Ober- und Unterseitenmikroskop.
Substrathalter (Chucks):
• 1 Stück Chuck für Wafer 100 mm Ø, geeignet für Vorder - und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,
• 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Ø, geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung im Randbereich des Wafers nach Vorgabe,
• 1 Stück Chuck für Wafer 150 mm Ø, geeignet für Vorder- und Rückseitenjustage, mit Vakuumansaugung über den gesamten Wafer.
Maskenhalter:
• 1 Stück für 7“ x 7“,
• 1 Stück für 5“ x 5“ für Proximitybelichtung.
Zusatzausrüstungen:
Die Nachrüstbarkeit der folgenden Optionen muss bei Bedarf möglich sein:
• Nanoimprint Lithografie,
• Softwaremodul für Bondalignment sowie Bondchucks.
II.2.13.
Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: ja
Projektnummer oder -referenz: 2021 FGI 0020
II.2.14.
Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1.
Beschreibung
IV.1.1.
Verfahrensart
Offenes Verfahren
IV.1.3.
Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8.
Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: nein
IV.2.
Verwaltungsangaben
IV.2.1.
Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 217-570487
IV.2.8.
Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems
IV.2.9.
Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 2220002/295304
Los-Nr.: 1
Bezeichnung des Auftrags:
Los 1 - Mask Aligner
Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja
V.2.
Auftragsvergabe
V.2.1.
Tag des Vertragsabschlusses
17/01/2022
V.2.2.
Angaben zu den Angeboten
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3.
Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde
Offizielle Bezeichnung: EV Group E. Thallner GmbH
Postanschrift: Hartham 13
Ort: Neuhaus
NUTS-Code: DE222 Passau, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 94152
Land: Deutschland
Der Auftragnehmer ist ein KMU: nein
V.2.4.
Angaben zum Wert des Auftrags/Loses
Gesamtwert des Auftrags/Loses: 229 706,00 EUR
V.2.5.
Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3.
Zusätzliche Angaben
VI.4.
Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1.
Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Postanschrift: Weimarplatz 4
Ort: Weimar
Postleitzahl: 99423
Land: Deutschland
VI.5.
Tag der Absendung dieser Bekanntmachung
01/02/2022