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1. Beschaffer
1.1.
Beschaffer
Offizielle Bezeichnung: Universität Siegen
Rechtsform des Erwerbers: Von einer regionalen Gebietskörperschaft kontrollierte Einrichtung des öffentlichen Rechts
Tätigkeit des öffentlichen Auftraggebers: Bildung
2. Verfahren
2.1.
Verfahren
Titel: Atomlagendepositions- und Atomlagenätz- Anlagen
Beschreibung: komplementärer Atomlagendepositions- und Atomlagenätz- Anlagen
Kennung des Verfahrens: 41f31fed-50f3-4b0e-b9c6-4307f9d215fc
Interne Kennung: 03-WIS25E1VV
Verfahrensart: Verhandlungsverfahren ohne Aufruf zum Wettbewerb
2.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferleistungen
Haupteinstufung (cpv): 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Zusätzliche Einstufung (cpv): 38434000 Analysatoren, 31712330 Halbleiter, 38540000 Maschinen und Geräte zum Prüfen und Messen
2.1.2.
Erfüllungsort
Postanschrift: Adolf-Reichwein-Str. 2a
Stadt: Siegen
Postleitzahl: 57076
Land, Gliederung (NUTS): Siegen-Wittgenstein (DEA5A)
Land: Deutschland
2.1.4.
Allgemeine Informationen
Zusätzliche Informationen: #Bekanntmachungs-ID: CXPNY56DPFT#
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU
vgv -
5. Los
5.1.
Los: LOT-0001
Titel: Atomlagendepositions- und Atomlagenätz- Anlagen
Beschreibung: Beschaffung zweier komplementärer Atomlagendepositions- und Atomlagenätzanlagen (inkl. Siliziumtiefenätzen) für den Reinraum der Naturwissenschaftlich-Technischen Fakultät der Universität Siegen bestehend aus zwei systemkompatiblen und komplementär ausgestatten Hochvakuumanlagen. Beide Anlagen verfügen über jeweils ein Single Wafer Loadlack für bis zu 200 mm Substrate, die in die Reinraumwand des INCYTE Reinraums der Universität Siegen integriert werden. Das PlasmaPro ASP ALD System der Firma Oxford Instruments erlaubt technologisch sowohl I.) die thermische als auch II.) die plasma-unterstützte chemische Atomlagendeposition (ALD). Die PlasmaPro ASP verfügt über eine 13.56 MHz RF-Plasmaquelle, separat beheizbare innere und äußere Kammerwände, eine präzise steuerbare Plasmaleistung im Bereich zwischen 50 W und 600 W zur minimal-invasiven Beschichtung und geringer Aufheizung der Proben und Plasma-Strike Zeiten <100 ms mit sowie minimalen Zykluszeiten <1 s für eine minimale Plasmainteraktion und chemische Reaktion mit dem Zielsubstrat. Speziell die Plasmainteraktionszeit (Strike Zeit) <100 ms ist essentiell für die Entwicklung von schädigungsarmen Abscheidungsprozessen auf hochempfindlichen 2D-Materialien und Quantendots für elektronische/sensorische Anwendungen. Die hochpräzise, atomlagengenaue Prozesskontrolle erfolgt in-situ mittels motorisiertem Wollam M-2000V-370 insitu Ellipsometer inklusive Software und einem Wellenlängenbereich von 370-1000nm mit 390 Wellenlängen in der Analyse. Das Ellipsometer zur Schichtdicken- und Schichtqualitätsanalyse mit sub-Angstrom Genauigkeit kann sowohl an die Kammer integriert sowie extern motorisiert mit einer dazugehörigen separaten Ellipsometer-Base genutzt werden. Das zu beschaffende ALD-System ermöglicht Plasma-ALD Prozesse von Al2O3 bei 300°C mit Zykluszeiten < 2 s und damit eine Schichtdickenpräzision von 0.11 nm/Zyklus für diesen essentiellen Prozess. Das komplementär zu beschaffende ICP-RIE System verfügt über die Technologie der Plasma-unterstützten Atomlagenätzung (ALE) inklusive anisotropem Silizium-Tiefenätzen mittels reaktivem Ionenätzen (DRIE) in einem Reaktor. Die ICP-RIE Anlage verfügt über eine integrierte Prozess-Endpunkt Detektion mittels zweier unabhängiger Methoden jeweils integriert in die Softwareumgebung: I) Laserendpunktdetektion mittels Horiba 670 nm Laserinterferometer inkl. motorisierter XY-Psotionierung zur präzisen Detektion der Ätztiefe und Ätzrate sowie II) integriertem Spektrometer (220-1050nm) zur optischen Endpunktdetektion mittels Farbzusammensetzungsänderung des Ätzplasmas.
Interne Kennung: 03-WIS25E1VV
5.1.1.
Zweck
Art des Auftrags: Lieferleistungen
Haupteinstufung (cpv): 38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
Zusätzliche Einstufung (cpv): 38434000 Analysatoren, 31712330 Halbleiter, 38540000 Maschinen und Geräte zum Prüfen und Messen
5.1.2.
Erfüllungsort
Postanschrift: Adolf-Reichwein-Str. 2a
Stadt: Siegen
Postleitzahl: 57076
Land, Gliederung (NUTS): Siegen-Wittgenstein (DEA5A)
Land: Deutschland
5.1.6.
Allgemeine Informationen
Auftragsvergabeprojekt nicht aus EU-Mitteln finanziert
Die Beschaffung fällt unter das Übereinkommen über das öffentliche Beschaffungswesen: nein
5.1.7.
Strategische Auftragsvergabe
Ziel der strategischen Auftragsvergabe: Keine strategische Beschaffung
5.1.10.
Zuschlagskriterien
Kriterium:
Art: Qualität
Bezeichnung: Qualität
Beschreibung: In nahezu jeder Prozessabfolge werden das ALD und das ALE/RIE System sequenziell nacheinander angewendet. Um diese verwandten Prozesse vollständig einheitlich und nutzerfreundlich zu gestalten, müssen die Systeme auf kompatiblen Software- und Bedienkonzepten basieren. Das System enthält eine patentierte und notwendige Plasmaquelle (EP 3 794 628 B1, Internationale Publikationsnummer: WO 2020/070482), die durch die spezielle Array Anordnung der vertikalen Elektroden das notwendige Plasma homogenverteilt oberhalb des Substrates erzeugt mit minimalinvasivem Einfluss auf das Zielsubstrat. Es muss minimale Defektdichte und Substratbeeinflussung, bei gleichzeitig maximaler Schichtqualität, Schichthomogenität (200 mm Wafer: +/-1,5 % Al2O3, +/-3 % TiO2, 1,5 % HfO2) und sehr hohe Abscheideraten von >200 nm/h (Al2O3), > 45 nm/h (TiO2) und > 78 nm/h (HfO2) gewährleistet werden.
Kategorie des Gewicht-Zuschlagskriteriums: Gewichtung (Punkte, genau)
Zuschlagskriterium — Zahl: 100
5.1.16.
Weitere Informationen, Schlichtung und Nachprüfung
Überprüfungsstelle: Vergabekammer Westfalen bei der Bezirksregierung Münster
Informationen über die Überprüfungsfristen: Statthafte Rechtsbehelfe sind gem. §§ 160 ff. GWB die Rüge sowie der Antrag auf Einleitung eines Nachprüfungsverfahrens vor der zuständigen Vergabekammer. Eine Rüge ist an die Vergabestelle zu richten. Eine Rüge bzw. der Antrag auf Einleitung eines Nachprüfungsverfahrens ist unzulässig, soweit - der Antragsteller den geltend gemachten Verstoß gegen Vergabevorschriften vor Einreichen des Nachprüfungsantrags erkannt und gegenüber dem Auftraggeber nicht innerhalb einer Frist von zehn Kalendertagen gerügt hat; der Ablauf der Frist nach § 134 Absatz 2 bleibt unberührt, - Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden, - Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, nicht spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden oder - mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind. Satz 1 gilt nicht bei einem Antrag auf Feststellung der Unwirksamkeit des Vertrags nach § 135 Absatz 1 Nummer 2. § 134 Absatz 1 Satz 2 bleibt unberührt.
Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt: Universität Siegen
6. Ergebnisse
Direktvergabe:
Begründung der Direktvergabe: Der Auftrag kann nur von einem bestimmten Wirtschaftsteilnehmer ausgeführt werden, da aus technischen Gründen kein Wettbewerb vorhanden ist
Sonstige Begründung: Der Auftrag ist gem. Art. 32 Abs. 1 i.V.m. Abs. 2 lit b) ii) RL 2014/24/EU (§ 14 Abs. 4 Nr. 2 lit. b VGV) im Verhandlungsverfahren ohne vorherige Bekanntmachung zu vergeben, da der Auftragnehmer alleiniger Lieferant der vertragsgegenständlichen Leistungen ist. Aufgrund der Beschaffung einer EFRE-geförderten Pilotlinie für integrierte Sensoren wird ein Atomlagendepositionsanlage ALD sowie ein atomlagenätzfähiger ICP-RIE Tiefenätzreaktor beschafft für die Herstellung von atomlagendünnen und atomlagengenauen 2D-high-k Dielektrika sowie deren Strukturierung inkl. Siliziumtiefenätzfähigkeit für den bestehenden und zukünftigen zentralen Reinraum der Naturwissenschaftlich-Technischen Fakultät der Universität Siegen. Die Atomlagendepositions- und Atomlagenätzanlagen dienen in den universitären Forschungsschwerpunkten der Sensorik sowie der Materialwissenschaften als zentraler Reinraum-Gerätebestandteil der Abscheidung und Ätzung verschiedenster Materialien inkl. Ätztechnologie für silizium-basierte Materialien für die materialwissenschaftliche Grundlagenforschung, vor allem aber auch der Herstellung neuartiger Sensoren aus verschiedensten Materialkombinationen sowie deren Integration in komplexe Bauelemente. Es werden in den verschiedenen Forschungsbereichen höchste Anforderungen an die Schichtqualität, Schichthomogenität und Schichtdickengenauigkeit, sowie die Qualität der Materialübergänge für komplexe Dünnschichtstrukturen gestellt, die lediglich dieser aufeinander abgestimmte Anlagenverbund ermöglicht. In nahezu jeder Prozessabfolge werden das ALD und das ALE/RIE System sequenziell nacheinander angewendet. Um diese verwandten Prozesse vollständig einheitlich und nutzerfreundlich zu gestalten, müssen die Systeme auf kompatiblen Software- und Bedienkonzepten basieren. Die von Oxford Instruments verwendete "PTIQ" Umgebung zur systematischen Bearbeitung zyklusbasierter Prozesse ist einmalig. Insbesondere in der Anwendung auf unterschiedlichen komplementären Systemen wird so die Einarbeitungszeit der Benutzer verringert, die Anpassbarkeit der Prozesse erhöht und insgesamt die Bedienung Gesamtheitlich erleichtert. Die Schichtqualität und Abscheidungshomogenität der ALD-Anlage stehen in einem besonderen Fokus. Hierbei ist insbesondere eine Vermeidung der Generation zusätzlicher Oberflächendefekte (z.B. bei 2D-Materialien oder Quantendots) bei der Deposition entscheidend, um die beste Qualität sowohl einzelner Materialien als auch von Materialübergängen zu erzielen. Im Gegensatz zu alternativen Systemen, enthält die Oxford Instruments ASP ALD dazu eine patentierte und notwendige Plasmaquelle (EP 3 794 628 B1, Internationale Publikationsnummer: WO 2020/070482), die durch die spezielle Array Anordnung der vertikalen Elektroden das notwendige Plasma homogenverteilt oberhalb des Substrates erzeugt mit minimalinvasivem Einfluss auf das Zielsubstrat. Nur so kann eine nach dem Stand der Technik minimale Defektdichte und Substratbeeinflussung, bei gleichzeitig maximaler Schichtqualität, Schichthomogenität (200 mm Wafer: +/-1,5 % Al2O3, +/-3 % TiO2, 1,5 % HfO2) und sehr hohe Abscheideraten von >200 nm/h (Al2O3), > 45 nm/h (TiO2) und > 78 nm/h (HfO2) gewährleistet werden. In diesem Zusammenhang ist die maximal erzielbare Abscheiderate des ASP Systems ein weiteres entscheidendes Beschaffungskriterium, um an der Universität Siegen schnellere Prozessentwicklungs-/Zykluszeiten zu etablieren. Die technologische Verknüpfung der Anlagen sowie die unmittelbare räumliche Nähe zur Nanoanalytik ermöglichen den systematischen Ausbau der hochaktuellen, herausfordernden Forschung der Probenherstellung auf atomarer Skala mit maximaler Homogenität und Ätzselektivität auf 6" Substraten. Die Remote-Servicefähigkeit des gesamten Anlagenparks ist aufgrund der Aufstellung des Beschichtungszentrums in modernem ISO-4 Reinraum zwingend erforderlich, so dass Servicearbeiten mit möglichst geringem Eintrag von zusätzlichen Verunreinigungen (wenige MitarbeiterInnen/wenige beteiligte Unternehmen) durchgeführt werden können. Ein anlagenspezifisches Energiemonitoring sowie ECO-Betriebsfähigkeit sind zwingend erforderlich, um einen energieoptimalen, ressourcenschonenden Betrieb langfristig zu gewährleisten. Weitere Begründung Alleinvergabe Servicesynergien (Responsezeiten, nur eine Firma nicht zwei) Nur aufgrund dieser Alleinstellung kann die Universität Siegen objektiv die speziellen wissenschaftlichen Forschungsarbeiten anforderungsgerecht ausführen - mithin wurde keine künstliche Einschränkung der Auftragsvergabeparameter vorgenommen und es gibt keine vernünftige Alternative oder Ersatzlösung i.S.v. Art. 32 Abs. 1 i.V.m. Abs. 2 lit b) Satz 2 RL 2014/24/EU (§ 14 Abs. 6 VGV).
6.1.
Ergebnis, Los-– Kennung: LOT-0001
6.1.2.
Informationen über die Gewinner
Wettbewerbsgewinner:
Offizielle Bezeichnung: Oxford Instruments GmbH
Angebot:
Kennung des Angebots: Q05862.5A und Q05861.6
Kennung des Loses oder der Gruppe von Losen: LOT-0001
Vergabe von Unteraufträgen: Nein
Informationen zum Auftrag:
Kennung des Auftrags: 03-WIS25E1VV
8. Organisationen
8.1.
ORG-0001
Offizielle Bezeichnung: Universität Siegen
Registrierungsnummer: DE 154854171
Postanschrift: Adolf-Reichwein-Str. 2a
Stadt: Siegen
Postleitzahl: 57076
Land, Gliederung (NUTS): Siegen-Wittgenstein (DEA5A)
Land: Deutschland
Kontaktperson: Vergabestelle
Telefon: +49 271740-4867
Fax: +49 271740-14918
Rollen dieser Organisation:
Beschaffer
Organisation, die zusätzliche Informationen über das Vergabeverfahren bereitstellt
8.1.
ORG-0002
Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer Westfalen bei der Bezirksregierung Münster
Registrierungsnummer: 05515-03004-07
Postanschrift: Albrecht-Thaer-Str. 9
Stadt: Münster
Postleitzahl: 48128
Land, Gliederung (NUTS): Münster, Kreisfreie Stadt (DEA33)
Land: Deutschland
Telefon: +49 251411-1691
Fax: +49 251411-2165
Rollen dieser Organisation:
Überprüfungsstelle
8.1.
ORG-0003
Offizielle Bezeichnung: Oxford Instruments GmbH
Größe des Wirtschaftsteilnehmers: Großunternehmen
Registrierungsnummer: DE 113869215
Postanschrift: Borsigstraße 15a
Stadt: Wiesbaden
Postleitzahl: 65205
Land, Gliederung (NUTS): Wiesbaden, Kreisfreie Stadt (DE714)
Land: Deutschland
Telefon: +49731 140 700
Rollen dieser Organisation:
Bieter
Wirtschaftlicher Eigentümer:
Staatsangehörigkeit des Eigentümers: Deutschland
Gewinner dieser Lose: LOT-0001
8.1.
ORG-0004
Offizielle Bezeichnung: Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)
Registrierungsnummer: 0204:994-DOEVD-83
Stadt: Bonn
Postleitzahl: 53119
Land, Gliederung (NUTS): Bonn, Kreisfreie Stadt (DEA22)
Land: Deutschland
Telefon: +49228996100
Rollen dieser Organisation:
TED eSender
Informationen zur Bekanntmachung
Kennung/Fassung der Bekanntmachung: 882b0c4b-2b03-456d-91b7-2f4345dfa62e - 01
Formulartyp: Vorankündigung – Direktvergabe
Art der Bekanntmachung: Freiwillige Ex-ante-Transparenzbekanntmachung
Unterart der Bekanntmachung: 25
Datum der Übermittlung der Bekanntmachung: 16/10/2025 11:27:46 (UTC+02:00) Osteuropäische Zeit, Mitteleuropäische Sommerzeit
Sprachen, in denen diese Bekanntmachung offiziell verfügbar ist: Deutsch
Veröffentlichungsnummer der Bekanntmachung: 683527-2025
ABl. S – Nummer der Ausgabe: 200/2025
Datum der Veröffentlichung: 17/10/2025