Beschreibung der Beschaffung
In diesem Ausschreibungsverfahren geht es um ein softwaregesteuertes Standalone-Mask-Aligner System, das in der Lage ist, Substrate bis zu 300 Millimeter (12") in Bezug auf Fotomasken von 350 Millimeter Kantenlänge (14") zu belichten. Die Beleuchtung muss eine hohe Homogenität und Gleichmäßigkeit aufweisen, wobei LEDs mit verschiedenen Wellenlängen verwendet werden. Das System muss ferner mit einem aktiven Keilfehler-Kompensationssystem für hohe Parallelität und einer interferenzoptischen
Gap-Einstellung ausgestattet sein.
Zusätzlich zur Fotolithografie müssen Werkzeug- und Substrathalterungen, sowie die Software-Steuerung dieses Gerät großflächige Imprint-Lithografie von Nanostrukturen und Abformungen von Mikrostrukturen ermöglichen.
Das System soll in die Prozessketten für Lithographie und Replikation in einem ISO-4-Reinraum integriert werden.