6896-2022 - ErgebnisDeutschland-Jena: Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
OJ S 5/2022 07/01/2022
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Lieferungen
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1.
Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung: Friedrich-Schiller-Universität Jena
Postanschrift: Fürstengraben 1
Ort: Jena
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 07743
Land: Deutschland
E-Mail: vergabestelle@uni-jena.de
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://www.uni-jena.de
I.4.
Art des öffentlichen Auftraggebers
Einrichtung des öffentlichen Rechts
I.5.
Haupttätigkeit(en)
Bildung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1.
Umfang der Beschaffung
II.1.1.
Bezeichnung des Auftrags
12“-Mask-Aligner
Referenznummer der Bekanntmachung: EU-OV/2021-136
II.1.2.
CPV-Code Hauptteil
38000000 Laborgeräte, optische Geräte und Präzisionsgeräte (außer Gläser)
II.1.3.
Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4.
Kurze Beschreibung
Die Friedrich-Schiller-Universität Jena beabsichtigt für die wissenschaftliche Tätigkeit am Institut für Angewandte Physik (IAP) den Kauf eines (1) Mask-Aligner Systems.
Beschafft werden soll ein softwaregesteuertes Standalone-Mask-Aligner System, das in der Lage ist, Substrate bis zu 300 Millimeter (12") in Bezug auf Fotomasken von 350
Millimeter Kantenlänge (14") zu belichten.
II.1.6.
Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7.
Gesamtwert der Beschaffung
Wert ohne MwSt.: 1 256 193,00 EUR
II.2.
Beschreibung
II.2.3.
Erfüllungsort
NUTS-Code: DEG03 Jena, Kreisfreie Stadt
II.2.4.
Beschreibung der Beschaffung
In diesem Ausschreibungsverfahren geht es um ein softwaregesteuertes Standalone-Mask-Aligner System, das in der Lage ist, Substrate bis zu 300 Millimeter (12") in Bezug auf Fotomasken von 350 Millimeter Kantenlänge (14") zu belichten. Die Beleuchtung muss eine hohe Homogenität und Gleichmäßigkeit aufweisen, wobei LEDs mit verschiedenen Wellenlängen verwendet werden. Das System muss ferner mit einem aktiven Keilfehler-Kompensationssystem für hohe Parallelität und einer interferenzoptischen
Gap-Einstellung ausgestattet sein.
Zusätzlich zur Fotolithografie müssen Werkzeug- und Substrathalterungen, sowie die Software-Steuerung dieses Gerät großflächige Imprint-Lithografie von Nanostrukturen und Abformungen von Mikrostrukturen ermöglichen.
Das System soll in die Prozessketten für Lithographie und Replikation in einem ISO-4-Reinraum integriert werden.
II.2.5.
Zuschlagskriterien
Qualitätskriterium - Name: Technischer Wert / Gewichtung: 30
Qualitätskriterium - Name: Lieferzeit, Training und Support / Gewichtung: 10
Preis - Gewichtung: 60
II.2.11.
Angaben zu Optionen
Optionen: nein
II.2.13.
Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14.
Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1.
Beschreibung
IV.1.1.
Verfahrensart
Offenes Verfahren
IV.1.3.
Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8.
Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
IV.2.
Verwaltungsangaben
IV.2.1.
Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 208-543592
IV.2.8.
Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems
IV.2.9.
Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: EU-OV/2021-136
Bezeichnung des Auftrags:
12“-Mask-Aligner
Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja
V.2.
Auftragsvergabe
V.2.1.
Tag des Vertragsabschlusses
17/12/2021
V.2.2.
Angaben zu den Angeboten
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 0
Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3.
Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde
Offizielle Bezeichnung: SUSS MicroTec Lithography GmbH
Ort: Garching
NUTS-Code: DE21H München, Landkreis
Land: Deutschland
Der Auftragnehmer ist ein KMU: nein
V.2.4.
Angaben zum Wert des Auftrags/Loses
Ursprünglich veranschlagter Gesamtwert des Auftrags/des Loses: 1 200 000,00 EUR
Gesamtwert des Auftrags/Loses: 1 256 000,00 EUR
V.2.5.
Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3.
Zusätzliche Angaben
VI.4.
Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1.
Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung: Vergabekammer beim Thüringer Landesverwaltungsamt
Ort: Weimar
Land: Deutschland
VI.4.3.
Einlegung von Rechtsbehelfen
Genaue Angaben zu den Fristen für die Einlegung von Rechtsbehelfen:
Rügen der Bieter, in welchen diese einen Verstoß gegen die Vorschriften imVergabeverfahren vortragen, sind ausnahmslos (schriftlich oder per E-Mail) an die Vergabestelle zu richten. Hilft die Vergabestelle der Rüge nicht ab, wird mit Eingang des entsprechenden Antwortschreibens der Vergabestelle, eine Frist von 15 Kalendertagen in Gang gesetzt (§ 160 Abs. 3 Nr. 4 GWB), innerhalb derer der Bieter einen etwaigen Nachprüfungsantrag bei der Vergabekammer einreichen kann.
VI.5.
Tag der Absendung dieser Bekanntmachung
04/01/2022