79258-2022 - ErgebnisDeutschland-München: Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
OJ S 31/2022 14/02/2022
Bekanntmachung vergebener Aufträge
Lieferungen
Rechtsgrundlage:
Richtlinie 2014/24/EU

Abschnitt I: Öffentlicher Auftraggeber

I.1.
Name und Adressen
Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft, Einkauf und Gerätewirtschaft C2
Postanschrift: Hansastraße 27c
Ort: München
NUTS-Code: DE212 München, Kreisfreie Stadt
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
Kontaktstelle(n): Einkauf IT, FM, Leasing, Beraterverträge
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de
Internet-Adresse(n):
Hauptadresse: https://vergabe.fraunhofer.de/
I.4.
Art des öffentlichen Auftraggebers
Andere: Forschung und Entwicklung
I.5.
Haupttätigkeit(en)
Andere Tätigkeit: Forschung und Entwicklung

Abschnitt II: Gegenstand

II.1.
Umfang der Beschaffung
II.1.1.
Bezeichnung des Auftrags
Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER
Referenznummer der Bekanntmachung: E_019_250426
II.1.2.
CPV-Code Hauptteil
42990000 Diverse Maschinen und Geräte für besondere Zwecke
II.1.3.
Art des Auftrags
Lieferauftrag
II.1.4.
Kurze Beschreibung
E_019_250426 MalOle-bla Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER (Hoch Ionisierte Plasmen zur Schichtabscheidung für Tribo-Anwendungen und Materials Engineering)
II.1.6.
Angaben zu den Losen
Aufteilung des Auftrags in Lose: nein
II.1.7.
Gesamtwert der Beschaffung
Wert ohne MwSt.: 0,01 EUR
II.2.
Beschreibung
II.2.3.
Erfüllungsort
NUTS-Code: DE131 Freiburg im Breisgau, Stadtkreis
Hauptort der Ausführung: IWM Wöhlerstraße 11 79108 Freiburg
II.2.4.
Beschreibung der Beschaffung
Kurzbeschreibung Multifunktionale Beschichtungsanlage mit modernster Quellentechnologie (Arc, HIPIMS, PA-CVD, Ionenquelle). Geforderte Kernkomponenten der Anlage: -Probenheizer bis 250 °C Substrattemperatur für Precleaning -PACVD-Beschichtungsquelle -2 x HiPIMS-Quellen HiPIMS peak current > 1 A/cm²; peak voltage > 1kV; umschaltbar auf HF > 5W/cm² / DC > 6W/cm²; -Ionenquelle/Ionenätzer zur Substratreinigung und ionengestützter Abscheidung (IBAD) -1 x ARC-Quelle -Mindestens 1 Position als 'Reserve', nachrüstbar mit weiterer Quelle -Heizer an einer Magnetron-Quellenposition, Tmax >= 800 °C am Substrat -Einlass für Reaktivgase O2, N2, CH4, H2 -Downstream-Druckregelung über Schieberventil -Prozesskontrolle: glasfaserspektrometrische Beobachtung der Plasmaentladung o.ä., Sichtfenster für optische Beobachtung -Separate Kammer für Schichtanalytik über Ramananalyse, XPS-Analyse o.Ä. (die Analytik selbst ist nicht Bestandteil der Ausschreibung) -Umfangreiche Möglichkeiten zum Substrathandling -Substrat HF-biasfähig, Flächenleistung > 0,5 W/cm² -Software/Steuerung: Erfassung aller relevanten Prozessparameter (Druck- Leistung, Temperatur, etc.); Erzeugung Datenfiles als Excel o.ä.; grafische Darstellung, Schnittstelle der Steuerung zu z.B. Labview
II.2.5.
Zuschlagskriterien
Qualitätskriterium - Name: technische Merkmale / Gewichtung: 65,00
Preis - Gewichtung: 35,00
II.2.11.
Angaben zu Optionen
Optionen: ja
Beschreibung der Optionen:
I. 2. Heizer im Kammer 2, analog zu erstem Heizer (Pos 32) II. Rohrmagnetron für eine freie Quellenposition III. in Kammer 2: aktive Kühlmöglichkeit für Substrat während der Arc-Beschichtung, z.B. über ausfahrbaren Kühlfinger. Kann je nach Anlagenkonzept neben dem vorhandenen Heizer oder im Austausch für den Heizer ausgeführt werden IV. weitere HiPims-Quelle, dabei beschichtbare Fläche bis zu 350 mm x 350 mm mit Dickenkonstanz ±5% V. Mimik zum Verfahren der HiPIMS-Quellen zum Einstellen des Abstandes Quelle-Substrat; Verfahrweg mind. 80 mm VI. Zusätzlich in Kammer 1 eine induktiv gekoppelte, impedanzangepasste PA-CVD Quelle, 13,56 MHz mit wassergekühlter Spule, Leistung > 1000 W VII. statt Arc-Quelle: filtered arc-Quelle. Dabei können mehrere kleine Quellen zu einer großen Quelle zusammengefasst werden VIII. Möglichkeit zur Abkopplung von Kammer 3 ohne Vakuumunterbrechung. IX. Weiteres Chargierfahrzeug für planare oder rotationssymmetrische Substrate X. Chargierfahrzeug mit herausnehmbarer Kassette zum erleichterten Handling kleiner Proben, passend zur Transferstange in der Analytik-Kammer
II.2.13.
Angaben zu Mitteln der Europäischen Union
Der Auftrag steht in Verbindung mit einem Vorhaben und/oder Programm, das aus Mitteln der EU finanziert wird: nein
II.2.14.
Zusätzliche Angaben

Abschnitt IV: Verfahren

IV.1.
Beschreibung
IV.1.1.
Verfahrensart
Verhandlungsverfahren
IV.1.3.
Angaben zur Rahmenvereinbarung oder zum dynamischen Beschaffungssystem
IV.1.8.
Angaben zum Beschaffungsübereinkommen (GPA)
Der Auftrag fällt unter das Beschaffungsübereinkommen: ja
IV.2.
Verwaltungsangaben
IV.2.1.
Frühere Bekanntmachung zu diesem Verfahren
Bekanntmachungsnummer im ABl.: 2021/S 161-422329
IV.2.8.
Angaben zur Beendigung des dynamischen Beschaffungssystems
IV.2.9.
Angaben zur Beendigung des Aufrufs zum Wettbewerb in Form einer Vorinformation

Abschnitt V: Auftragsvergabe

Auftrags-Nr.: 1
Bezeichnung des Auftrags:
Kombinierte PVD-PACVD-Beschichtungsanlage HIPSTER
Ein Auftrag/Los wurde vergeben: ja
V.2.
Auftragsvergabe
V.2.1.
Tag des Vertragsabschlusses
02/02/2022
V.2.2.
Angaben zu den Angeboten
Anzahl der eingegangenen Angebote: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von KMU: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus anderen EU-Mitgliedstaaten: 1
Anzahl der eingegangenen Angebote von Bietern aus Nicht-EU-Mitgliedstaaten: 1
Anzahl der elektronisch eingegangenen Angebote: 1
Der Auftrag wurde an einen Zusammenschluss aus Wirtschaftsteilnehmern vergeben: nein
V.2.3.
Name und Anschrift des Wirtschaftsteilnehmers, zu dessen Gunsten der Zuschlag erteilt wurde
Offizielle Bezeichnung: Aurion Anlagentechnik GmbH
Postanschrift: Am Sandborn 14
Ort: Seligenstadt
NUTS-Code: DE71C Offenbach, Landkreis
Postleitzahl: 63500
Land: Deutschland
E-Mail: neue_wege@aurion.de
Der Auftragnehmer ist ein KMU: ja
V.2.4.
Angaben zum Wert des Auftrags/Loses
Gesamtwert des Auftrags/Loses: 0,01 EUR
V.2.5.
Angaben zur Vergabe von Unteraufträgen

Abschnitt VI: Weitere Angaben

VI.3.
Zusätzliche Angaben
VI.4.
Rechtsbehelfsverfahren/Nachprüfungsverfahren
VI.4.1.
Zuständige Stelle für Rechtsbehelfs-/Nachprüfungsverfahren
Offizielle Bezeichnung: VERGABEKAMMER
Postanschrift: Villemombler Straße 76
Ort: Bonn
Postleitzahl: 53123
Land: Deutschland
VI.4.4.
Stelle, die Auskünfte über die Einlegung von Rechtsbehelfen erteilt
Offizielle Bezeichnung: Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
Postanschrift: Hansastraße 27c
Ort: München
Postleitzahl: 80686
Land: Deutschland
E-Mail: einkauf@zv.fraunhofer.de
Internet-Adresse: https://www.fraunhofer.de
VI.5.
Tag der Absendung dieser Bekanntmachung
09/02/2022