16 false true https://vergabe.fraunhofer.de/ ORG-7001 Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 Fraunhofer-Gesellschaft - Einkauf B12 Hansastraße 27c München 80686 DE212 DEU DE 129515865 Einkauf Betrieb und Infrastruktur +49891205-0 einkauf@zv.fraunhofer.de ORG-7004 Vergabekammern des Bundes Vergabekammern des Bundes Kaiser-Friedrich-Straße 16 Bonn 53113 DEA22 DEU t:022894990 +49 228 9499-0 vk@bundeskartellamt.bund.de https://www.fraunhofer.de ORG-7005 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Hansastraße 27c München 80686 DE212 DEU DE-129515865 +49 89 1205-0 einkauf@zv.fraunhofer.de ORG-7006Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Bonn53119DEA22DEU0204:994-DOEVD-83+49228996100noreply.esender_hub@bescha.bund.de 00763948-2025222/20252025-11-18+01:00 2.3 eforms-sdk-1.13 eforms-sdk-1.13 ec6d8d75-4133-4f26-8bf4-db25fc4e356a 8644f088-c3c2-47f1-84ce-8b4936eaa7b2 2025-11-17+01:00 11:05:01+01:00 01 2025-11-17+01:00 32014L0024 cn-standard DEU ENG https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/ pub-undert gen-pub ORG-7001 ted-esenORG-7006 vgv epo-notice epo-procurement-document epo-sub-espd exg-sitn-other exg-crim-corrpt exg-crim-part exg-mis-distortion exg-mis-bre-env-law exg-crim-laund exg-crim-fraud exg-crim-traffick exg-sitn-insolvency exg-mis-bre-lab-law exg-sitn-liq-admin exg-mis-misrepresent exg-mis-partic-confl exg-mis-prep-confl exg-mis-misconduct exg-mis-sanction exg-mis-bre-soc-law exg-pmt-bre-ssc exg-sitn-as-susp exg-pmt-bre-tax exg-crim-terror exg-natl-bre-nat-law Es gelten alle einschlägigen zwingenden wie fakultativen Ausschlussgründe, die durch nationales Recht normiert sind. All relevant mandatory and optional grounds for exclusion stipulated by national law apply. neg-w-call false PR1094599-3460-P Single Chamber Cleaning Tool (IZM-137) - PR1094599-3460-P Single Chamber Cleaning Tool (IZM-137) - PR1094599-3460-P Single Chamber Cleaning Tool (IZM-137) Single Chamber Cleaning Tool (IZM-137) supplies 31712100 Reinraum - tbd nach Zuschlagserteilung & Absprache mit FhI Clean room - to be determined after contract award and consultation with FhI Ringstr. 12 Dresden-Moritzburg 01468 DED2E DEU LOT-0000 slc-abil-ref-work Referenzen von mindestens 3 vergleichbaren Projekten (Kurzbeschreibung Gerät, Kundennennung), nicht älter als aus dem Jahr 2022 *** ACHTUNG *** Sollten Sie aus datenschutzrechtlichen Gründen Ihre Ansprechpartner nicht benennen dürften, so kategorisieren Sie bitte Ihren Auftragsgeber (Forschung, Industrie, andere öffentliche Auftragsgeber) und bestätigen Sie, dass Ihre Referenzen mit der ausgeschriebenen Leistung vergleichbar sind. References from at least 3 comparable projects (brief description of the device, customer name), not older than 2022 *** ATTENTION *** If you are not permitted to name your contacts for data protection reasons, please categorise your client (research, industry, other public clients) and confirm that your references are comparable to the service advertised. slc-abil-staff-yrly-avg-mp Darstellung der Firma: Mindestangaben: Gründungsjahr, wichtige Meilensteine des Unternehmens, Anzahl der Mitarbeiter, was wird hergestellt / welche Leistungen werden erbracht -> Alle Angaben bitte in Textform; KEINE Links oder Bilder. Company profile: Minimum information: Year of establishment, important milestones in the company's history, number of employees, what is manufactured/what services are provided -> Please provide all information in text form; NO links or images. slc-stand-other 1. Eigenerklärung über das Nichtvorliegen von Ausschlussgründen nach § 123 und § 124 GWB 2. Eigenerklärung-Selfdeclaration (EU) Nr. 833/2014 1. Self-declaration regarding the absence of grounds for exclusion pursuant to Sections 123 and 124 of the German Act against Restraints of Competition (GWB) 2. Self-declaration (EU) No. 833/2014 slc-stand-ratio Umsatz der letzten 3 Geschäftsjahre Turnover of the last 3 financial years false false not-allowed eu-funds not-requ false allowed DEU TenderDoc non-restricted-document https://vergabe.fraunhofer.de/NetServer/TenderingProcedureDetails?function=_Details&TenderOID=54321-Tender-19a72727856-74672257fffce260 epo-notice epo-procurement-document late-all Siehe Vergabeunterlagen See procurement documents none no performance Bei evtl. Einsatz von Nachunternehmern sind diese zu benennen, ihre Eignung ist ebenfalls anhand der unter "Ausschreibungsbedingungen" aufgeführten Eignungskriterien nachzuweisen. Ferner ist zu bestätigen, dass sie im Auftragsfall zur Verfügung stehen; deren Anteil am Umfang des Auftragsgegenstandes ist darzulegen. In the event that subcontractors are used, they must be named and their suitability is likewise to be substantiated on the basis of the listed documents under "Tendering terms". Furthermore, it must be confirmed that they will be available if the order is placed; their share in the scope of the contractual object must be stated. allowed not-allowed false per-exa 65.00 quality Technische Spezifikation Technical Specification Technische Spezifikation Technical Specification per-exa 35.00 price Preis Price Bewertet wird der Gesamtpreis inkl. aller Nebenkosten über die Laufzeit Price ORG-7001 https://vergabe.fraunhofer.de Ein Nachprüfungsantrag ist unzulässig, soweit mehr als 15 Kalendertage nach Eingang der Mitteilung des Auftraggebers, einer Rüge nicht abhelfen zu wollen, vergangen sind (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 4 GWB). Ein Nachprüfungsantrag ist zudem unzulässig, wenn der Zuschlag erfolgt ist, bevor die Vergabekammer den Auftraggeber über den Antrag auf Nachprüfung informiert hat (§§ 168 Abs. 2 Satz 1, 169 Abs. 1 GWB). Die Zuschlagserteilung ist möglich 15 Kalendertage nach Absendung der Bieterinformation nach § 134 Abs. 1 GWB. Wird die Information auf elektronischem Weg oder per Fax versendet, verkürzt sich die Frist auf zehn Kalendertage (§ 134 Abs. 2 GWB). Die Frist beginnt am Tag nach der Absendung der Information durch den Auftraggeber; auf den Tag des Zugangs beim betroffenen Bieter und Bewerber kommt es nicht an. Die Zulässigkeit eines Nachprüfungsantrags setzt ferner voraus, dass die geltend gemachten Vergabeverstöße 10 Kalendertage nach Kenntnis gegenüber dem Auftraggeber gerügt wurden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 1 GWB). Verstöße gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der in der Bekanntmachung benannten Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 2 GWB) . Verstöße gegen Vergabevorschriften, die erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, müssen spätestens bis zum Ablauf der Frist zur Bewerbung oder zur Angebotsabgabe gegenüber dem Auftraggeber gerügt werden (§ 160 Abs. 3 Satz 1 Nr. 3 GWB). Applications for review are not permitted if more than 15 calendar days have passed since receipt of notification from the contracting authority that it is unwilling to redress an objection (section 160 (3) sentence 1 no. 4 of the German Competition Act (Gesetz gegen Wettbewerbsbeschränkungen, GWB)). Additionally, applications for review are not permitted if an award has been made before the public procurement tribunal has informed the contracting authority about the application for review (sections 168 (2) sentence 1 and 169 (1) GWB). Contracts may be awarded 15 calendar days after the tenderer information pursuant to section 134 (1) GWB has been sent. If the information is sent electronically or by fax, the period shall be reduced to ten calendar days (section 134 (2) GWB). The period shall begin on the day after which the contracting authority sends the information; the date of receipt by the tenderer and candidate in question shall be irrelevant. The admissibility of a review application also requires that the applicant notified the contracting authority about the claimed violations of public procurement provisions within ten calendar days of becoming aware of them (section 160 (3) sentence 1 no. 1 GWB). Violations of public procurement provisions which become apparent from the tender notice must be notified to the contracting authority by the end of the time limit for the application or the submission of a tender specified in the notice (section 160 (3) sentence 1 no. 2 GWB). Violations of public procurement provisions which only become apparent from the procurement documents must be notified to the contracting authority by the end of the time limit for the application or the submission of a tender (section 160 (3) sentence 1 no. 3 GWB). ORG-7005 ORG-7004 DEU false false allowed false true 2025-12-18+01:00 11:30:00+01:00 false 3 false none none LOT-0000 Single Chamber Cleaning Tool (IZM-137) - PR1094599-3460-P Single Chamber Cleaning Tool (IZM-137) - PR1094599-3460-P 1x Single Chamber Cleaning Tool Diese Spezifikation beschreibt die Komponenten und Funktionen eines Nasschemikalien-Reinigungssystems für die Halbleiterfertigung. Das System umfasst verschiedene Medienversorgungseinheiten, Sprüh- und Spülmodule sowie Ionisierungseinheiten zur präzisen Steuerung und Überwachung der Prozessparameter. Das System unterstützt die Reinigung von Fotomasken, auf Filmrahmen montierten Wafer-Substraten sowie runden Wafern mit 200 mm und 300 mm Durchmesser. Diese Reinigungsprozesse verwenden Piranha- und SC1-Chemikalienlösungen und werden durch Ultraschallbewegung oder bürstenunterstützte Reinigung ergänzt, um eine gründliche Entfernung von organischen Rückständen, Partikeln und Oberflächenverunreinigungen zu gewährleisten. Das Ziel ist die Entfernung von Partikeln mit einer Größe von >250 nm zur Unterstützung von i-Line-Lithografieanwendungen. Optionale Features: -Extreme Verformung und Durchbiegung im Bereich von 1500 bis 2500 µm -Verbesserte Entfernung von Partikeln und Rückständen durch direkten Oberflächenkontakt mithilfe eines vertikalen Rotationsbürstensystems -Bewegungsgesteuerter vertikaler Bürstenkopf -Chemisch beständiges Bürstenmaterial, geeignet für aggressive Medien -Verwendete Medien: DI-Wasser, SC1 (NH₄OH, H₂O₂), Piranha (H₂O₂ / H₂SO₄), nicht temperaturgesteuert -Durchfluss und Druck einstellbar und überwachbar: elektronische Anzeige mit programmierbaren Alarmgrenzen -Präzise geführte Bewegung für gleichmäßige Reinigungsleistung über die gesamte Substratoberfläche -Dosierarm: Programmierbare Bewegung (Steuerung von Start-/Endpunkt, -Scangeschwindigkeit, Drehzahl, Bürstenhöhe, Bürstendruck mit Kraftrückmeldung) -Programmierbare Bürsten-Selbstreinigungszyklen nach jedem Programm und während Inaktivitätsphasen (DI-Wasserspülung zur Verhinderung von Medienkristallisation) -Sicherheitsmerkmale: Programmierbare Alarmgrenzen mit Software-Verriegelung zur Prozesssteuerung -Lagerung von CO₂-Gasflaschen (2-6 kg, geeignet für die interne Chemikalienversorgung/Werkzeuglagerung) -Funktion: Kontrollierte CO₂-Injektion für -Leitfähigkeitsbereich: 5-15 µS, stabil bis ±20 % -Filtration: 0,003 µm CO₂-Gasfilter -Softwaregesteuerte Alarmgrenzen und Einstellungen -Bürstenunterstützte DI-Wasser-, SC1- oder Piranha-Reinigung auf der Vorderseite mit DI-Wasserreinigung auf Vorder- und Rückseite, N2-unterstütztes -Schleudertrocknen 1x Single Chamber Cleaning Tool This specification describes the components and functions of a wet chemical cleaning system for semiconductor manufacturing. The system includes various media supply units, spray and rinse modules, and ionisation units for precise control and monitoring of process parameters. The system supports the cleaning of photomasks, film frame-mounted wafer substrates, and round wafers with diameters of 200 mm and 300 mm. These cleaning processes use Piranha and SC1 chemical solutions and are supplemented by ultrasonic agitation or brush-assisted cleaning to ensure thorough removal of organic residues, particles, and surface contaminants. The goal is to remove particles larger than 250 nm to support i-line lithography applications. Optional features: -Extreme deformation and deflection in the range of 1500 to 2500 µm -Improved removal of particles and residues through direct surface contact using a vertical rotary brush system -Motion-controlled vertical brush head -Chemically resistant brush material, suitable for aggressive media -Media used: DI water, SC1 (NH₄OH, H₂O₂), piranha (H₂O₂ / H₂SO₄), not temperature-controlled -Flow and pressure adjustable and monitorable: electronic display with programmable alarm limits -Precisely guided movement for uniform cleaning performance across the entire substrate surface -Dosing arm: Programmable movement (control of start/end point, scanning speed, rotational speed, brush height, brush pressure with force feedback) -Programmable brush self-cleaning cycles after each programme and during periods of inactivity (DI water rinsing to prevent media crystallisation) -Safety features: Programmable alarm limits with software lock for process control -Storage of CO₂ gas cylinders (2-6 kg, suitable for internal chemical supply/tool storage) -Function: Controlled CO₂ injection for -Conductivity range: 5-15 µS, stable to ±20 % -Filtration: 0.003 µm CO₂ gas filter -Software-controlled alarm limits and settings -Brush-assisted DI water, SC1 or Piranha cleaning on the front with DI water cleaning on the front and back, N₂ assisted spin drying supplies #Besonders auch geeignet für:other-sme# #Also particularly suitable for:other-sme# true none 31712100 Reinraum - tbd nach Zuschlagserteilung & Absprache mit FhI Clean room - to be determined after contract award and consultation with FhI Ringstr. 12 Dresden-Moritzburg 01468 DED2E DEU 2026-11-27+01:00 2027-06-30+02:00