16 http://www.upv.es ORG-0001 Rectorado de la Universitat Politècnica de València 1 Valencia 46022 Valencia/València ES523 ESP España 40000260000071 Q4618002B Rectorado de la Universitat Politècnica de València 963877406 contratacion@upv.es http://www.upv.es/entidades/CYO/ TPO-0001 Servicio de Cotratación. Edificio Rectorado de la Universitat Politècnica de València 1 Valencia 46022 ES300 ESP España +34 963877406 contratacion@upv.es http://www.upv.es/entidades/CYO/ TPO-0002 Universitat Politècnica de València 1 Valencia 46022 Valencia/València ES523 ESP España 00504178-2026138/20262026-07-21+02:00 2.3 eforms-sdk-1.13 21acecc3-2d68-4d54-8e06-23ad0f987c8a 356bae2a-b081-40c6-8340-cfd1f38ad6df 2026-07-20+02:00 10:30:18+02:00 01 32014L0024 cn-standard SPA https://contrataciondelestado.es/wps/poc?uri=deeplink:perfilContratante&idBp=zlBD30X0P3g%3D body-pl-ra education ORG-0001 eu-funds exg-mis-partic-confl Conflicto de intereses debido a que el licitador haya participado en el procedimiento de contratación objeto de este contrato. epo-notice open false MY26/ITEAM/S/55 Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV La contratación objeto del presente expediente se hace necesaria a fin de llevar a cabo la labor de investigación y desarrollo para la Pilot Line de la UPV, con el objetivo de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, para permitir el desarrollo y el despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y tecnologías de semiconductores de próxima generación. A tal efecto, resulta necesario proceder a la adquisición, entre otros, de los siguientes equipos: 4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Equipo de litografía por haz de electrones que expone patrones en resistencias sensibles mediante un haz de electrones enfocado y escaneado. Escribe características con resolución nanométrica según diseño en archivo digital. Dedicado a patronado de nanofabricación, especialmente para máscaras y estructuras en fotónica, semiconductores y nanotecnología. • UPV13 – SEM: Equipo de inspección de superficies mediante un haz de electrones enfocado que entrega imágenes de resolución nanométrica. Permite obtener información morfológica y de contraste superficial, así como contraste asociado a diferencias de composición o número atómico, en función de los detectores y modos de imagen disponibles. Dedicado a metrología, inspección y validación de proceso y control de calidad. La idoneidad del equipamiento se fundamenta en su capacidad para cubrir de forma conjunta los requisitos de patronaje y metrología dedicada necesarios para la fabricación en línea piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Esta capacidad permite coordinar la definición de parámetros de exposición y puntos de interés para metrología posterior, integrar la inspección SEM externa post-proceso y asegurar la trazabilidad y coherencia de los datos generados durante el flujo de fabricación. supplies 4242784 31712110 ES523 ESP 2026-11-01+01:00 2029-06-01+02:00 LOT-0000 slc-stand-to-gen Cifra anual de negocio used slc-abil-ref-supply Trabajos realizados used eu-funds Detalle_Licitacion non-restricted-document SPA official https://contrataciondelestado.es/wps/poc?uri=deeplink:detalle_licitacion&idEvl=jayWHYFP59I36J9Lctlsuw%3D%3D epo-notice exg-mis-partic-confl Conflicto de intereses debido a que el licitador haya participado en el procedimiento de contratación objeto de este contrato. epo-notice false none no allowed performance Ver apartado X del cuadro de características . not-allowed not-allowed poi-exa 4 quality DETECCIÓN AUTOMÁTICA DE ALTURA Y CORRECCIÓN DEL PLANO FOCAL. poi-exa 10 quality ESTACIÓN AVANZADA DE PRE-ALINEAMIENTO (PRE-ALIGNMENT STATION). poi-exa 10 quality ESTACIÓN DE VALIDACIÓN DE RECETAS DE PROCESO (EMULADOR). poi-exa 6 quality GENERADOR DE ESCANEO CON CORRECCIÓN DE DISTORSIÓN EN TIEMPO REAL. poi-exa 4 quality MÓDULO DE ROTACIÓN E INCLINACIÓN (TILT) PARA INSPECCIÓN. poi-exa 66 price OFERTA ECONÓMICA: PRECIO. https://contrataciondelestado.es/wps/poc?uri=deeplink:detalle_licitacion&idEvl=jayWHYFP59I36J9Lctlsuw%3D%3D 2 Advertir a los interesados que el presente acto pone fin a la vía administrativa. Contra el mismo se podrá interponer recurso Contencioso-Administrativo ante el órgano jurisdiccional competente de lo Contencioso-Administrativo de la Comunidad Valenciana, dentro del plazo de dos meses contados desde el día siguiente al de la recepción de la notificación de la presente Resolución. No obstante, los interesados podrán optar por interponer contra esta resolución un recurso de reposición, en el plazo de un mes, ante el mismo órgano que la dictó, en cuyo caso no cabrá interponer el recurso Contencioso-Administrativo anteriormente citado en tanto recaiga resolución expresa o presunta de recurso de reposición, de acuerdo con lo dispuesto en el artículo 123 y sig. de la ley 39/2015, de 1 de octubre del procedimiento administrativo común de las administraciones públicas (BOE 2 de octubre de 2015). En los casos previstos en el artículo 44 de la Ley 9/2017, de 8 de noviembre de Contratos del Sector Público, advertir a los interesados que esta resolución es definitiva en vía administrativa y contra la misma podrá interponerse potestativamente recurso especial en materia de contratación regulado en dicho artículo, ante el órgano de contratación de la Universitat Politécnica de València. El plazo de interposición será de 15 días hábiles, contados a partir del siguiente a aquel en que se remita la notificación del acto impugnado. En los supuestos de financiación por la U.E. (Fondos NEXT GENERATION), el plazo de interposición del recurso especial en materia de contratación, cuando proceda, será de 10 días naturales y se computará en la forma establecida en el artículo 50.1 de la Ley 9/2017, de 8 de noviembre. TPO-0001 TPO-0002 SPA false false required false 2026-09-15+02:00 23:59:00+02:00 Detalle_Licitacion https://contrataciondelestado.es/wps/poc?uri=deeplink:detalle_licitacion&idEvl=jayWHYFP59I36J9Lctlsuw%3D%3D 2026-09-16+02:00 09:00:00+02:00 Sala Centro. Edificio Rectorado 1ª planta. Universitat Politècnica de València. false none none MY26/ITEAM/S/55 Suministro, instalación y puesta en funcionamiento de un equipo Electron Beam Lithography tool up to 8-inch wafers (UPV04) y un equipo SEM (UPV13) para la Pilot Line de la UPV La contratación objeto del presente expediente se hace necesaria a fin de llevar a cabo la labor de investigación y desarrollo para la Pilot Line de la UPV, con el objetivo de mejorar las líneas piloto avanzadas existentes y desarrollar nuevas en toda la Unión, para permitir el desarrollo y el despliegue de tecnologías de semiconductores de vanguardia y tecnologías de semiconductores de próxima generación. A tal efecto, resulta necesario proceder a la adquisición, entre otros, de los siguientes equipos: 4 • UPV04 - Electron beam lithography tool up to 8-inch wafers: Equipo de litografía por haz de electrones que expone patrones en resistencias sensibles mediante un haz de electrones enfocado y escaneado. Escribe características con resolución nanométrica según diseño en archivo digital. Dedicado a patronado de nanofabricación, especialmente para máscaras y estructuras en fotónica, semiconductores y nanotecnología. • UPV13 – SEM: Equipo de inspección de superficies mediante un haz de electrones enfocado que entrega imágenes de resolución nanométrica. Permite obtener información morfológica y de contraste superficial, así como contraste asociado a diferencias de composición o número atómico, en función de los detectores y modos de imagen disponibles. Dedicado a metrología, inspección y validación de proceso y control de calidad. La idoneidad del equipamiento se fundamenta en su capacidad para cubrir de forma conjunta los requisitos de patronaje y metrología dedicada necesarios para la fabricación en línea piloto de circuitos fotónicos integrados híbridos. Esta capacidad permite coordinar la definición de parámetros de exposición y puntos de interés para metrología posterior, integrar la inspección SEM externa post-proceso y asegurar la trazabilidad y coherencia de los datos generados durante el flujo de fabricación. supplies other Otros none other Otros 31712110 ES523 ESP 2026-11-01+01:00 2029-06-01+02:00