16https://www.eah-jena.de/ORG-0000Ernst-Abbe-Hochschule JenaCarl-Zeiss-Promenade 2Jena07745DEG03DEU16900450-0001-98Justiziariat/ Vergabestelle+49 3641-205145+49 3641-205201vergabestelle@eah-jena.deORG-0001Vergabekammer Thüringen (Thüringer Landesverwaltungsamt)Jorge-Semprún-Platz 4Weimar99423DEG05DEU16900334-0001-290361 57332 12540361 57332 1059vergabekammer@tlvwa.thueringen.deORG-0003Datenservice Öffentlicher Einkauf (in Verantwortung des Beschaffungsamts des BMI)Bonn53119DEA22DEU0204:994-DOEVD-83+49228996100noreply.esender_hub@bescha.bund.de00473103-2024152/20242024-08-06+02:002.3eforms-sdk-1.70966dce0-6a6f-4463-86e5-18ea13f11fe26f3e4f6d-0053-4da1-8e22-c4b2d23554c12024-08-05+02:0000:00:00+02:00012024-08-05+02:0032014L0024cn-standardDEUhttps://www.eah-jena.de/hochschule/recht-und-vergabe/vergabebody-pl-raeducationORG-0000ted-esenORG-0003vgvnati-ground(1) Im Angebot ist zu erklären, ob bei dem Unternehmen Ausschlussgründe gemäß §§ 123, 124 GWB vorliegen. Soweit Tatbestände nach den vorgenannten Vorschriften beim Unternehmen vorliegen, sind in einer Anlage nähere Angaben zu machen, um dem Auftraggeber die Prüfung der Ausnahmetatbestände des § 123 Abs. 5 GWB, eine Entscheidung über die fakultativen Ausschlussgründe nach § 124 GWB bzw. eine Prüfung der Sebstreinigungsmaßnahmen nach § 125 GWB zu ermöglichen. (2) Im Angebot ist zu erklären, ob bei dem Unternehmen Ausschlussgründe gemäß § 21 des Arbeitnehmerentsendegesetzes, § 98c des Aufenthaltsgesetzes, § 19 des Mindestlohngesetzes, § 21 des Schwarzarbeitsbkämpfungsgsetzes und § 22 des Lieferkettensorgfaltspflichtengesetzes, soweit diese Vorschriften jeweils anwendbar sind, vorliegen. Soweit Tabestände nach den vorgenannten Vorschriften beim Unternehmen vorliegen, sind in einer Anlage nähere Angaben zu machen, um den Auftraggeber die Prüfung der Eignung, insbesondere der Zuverlässigkeit, und eine Entscheidung über die Eignung zu ermöglichen. (3) Detaillierte Angaben zu den Ausschlussgründen sind Anlage 7 der Vergabeunterlagen zu entnehmen.falseLieferung einer 2-Photonen-Lithografieanlage gemäß den Anforderungen der Leistungsbeschreibung (Anlage 1 der Vergabeunterlagen)openfalseST-02/2024-23301920Lieferung einer 2-Photonen-LithografieanlageLieferung einer 2-Photonen-Lithografieanlage gemäß den Anforderungen der Leistungsbeschreibung (Anlage 1 der Vergabeunterlagen)suppliesBieter sind verpflichtet, mit der Abgabe des Angebots eine Eigenerklärung zur Einhaltung der Bestimmungen des Thüringer Vergabegesetzes vorzulegen (Anlage 12 nebst Erörterungen zur Eigenerklärung in Anlage 13). Es können nur solche Angebote gewertet werden, denen eine Eigenerklärung gem. § 8 Abs. 1 ThürVgG beigefügt ist. Das Projekt wird aus Mitteln der Europäischen Union finanziert. Drittmittelförderung durch die Thüringer Aufbaubank – EFRE-Programm 2021-2027 Thüringen Fkz.: 2023 IZN 000646900042990000Carl-Zeiss-Promenade 2Jena07745DEG03DEULOT-0000sui-actBefähigung und Erlaubnis zur BerufsausübungDer Bieter hat je nach den Rechtsvorschriften des Staats, in dem er niedergelassen ist, entweder die Eintragung in einem Berufs- oder Handelsregister dieses Staats nachzuweisen oder auf andere Weise die erlaubte Berufsausübung nachzuweisen. Die Eignungskriterien werden näher in Anlage 7 der Vergabeunterlagen beschrieben.usedef-standVorjahresumsatz des BietersDer Vorjahresumsatz des Bieters betrug im Tätigkeitsbereich des Auftrags mindestens das Zweifache des Auftragswertes. Die Eignungskriterien werden näher in Anlage 7 der Vergabeunterlagen beschrieben.usedtp-abilBeibringung einer Liste von ReferenzenDer Bieter hat innerhalb der letzten drei Jahre mindestens drei vergleichbare Aufträge ausgeführt und kann dies durch geeignete Referenzen in Form einer Liste der in den letzten höchstens drei Jahren erbrachten wesentlichen Liefer- oder Dienstleistungen mit Angabe des Werts, des Liefer- beziehungsweise Erbringungszeitpunkts sowie des öffentlichen oder privaten Empfängers nachweisen. Die Eignungskriterien werden näher in Anlage 7 der Vergabeunterlagen beschrieben.usedtp-abilUmweltmanagementmaßnahmen des BietersDer Bieter ergreift geeignete Maßnahmen zur Verringerung der mit der Auftragsausführung einhergehenden Umweltbelastung. Die Umweltmanagementmaßnahmen, die während der Ausführung angewendet werden sollen, sind anzugeben. Entsprechende Nachweise sind vorzuhalten und auf geson-dertes Verlangen nachzureichen. Die Eignungskriterien werden näher in Anlage 7 der Vergabeunterlagen beschrieben.usedtp-abilAngabe UnterauftägeEs ist anzugeben, welche Teile des Auftrags der Bieter unter Umständen als Unteraufträge zu vergeben beabsichtigt. Bei Vergabe eines Unterauftrags sind die Angaben des Unterauftraggebers entsprechend Ziff. 1.6 dieses Dokument beizubringen. Die Eignungskriterien werden näher in Anlage 7 der Vergabeunterlagen beschrieben.usedtp-abilNachweis über die Fähigkeit des zu liefernden Gutes, die unter dem Punkt A102 genannten Prozess durchführen zu können, gemäß 2.3 d) der EignungskriterienDer Bieter muss nachweisen, dass er zur Erfüllung des Anforderungskriteriums A102 der Leistungsbeschreibung (Anlage 1) die erforderliche technische Leistungsfähigkeit mitbringt. Der Nachweis ist wie folgt zu erbringen: - Es muss durch Messprotokolle oder Zertifikate, die von unabhängigen Dritten erstellt wurden, nachgewiesen werden, dass die angebotene Anlage bzw. der angebotene Anlagentyp für die Benutzung im Reinraum der Klassifikation ISO 6 oder besser gemäß der Normreihe ISO 14644 geeignet ist. Die Eignungskriterien werden näher in Anlage 7 der Vergabeunterlagen beschrieben.usedtp-abilNachweis über die Fähigkeit des zu liefernden Gutes, die unter den Punkten A901 bis A903 genannten Prozesse durchführen zu können, gemäß 2.3 e) der EignungskriterienDer Bieter muss nachweisen, dass er zur Erfüllung der Anforderungskriterien A901 bis A903 der Leistungsbeschreibung (Anlage 1) die erforderliche technische Leistungsfähigkeit mitbringt. Der Nachweis ist wie folgt zu erbringen: a. Wissenschaftliche Veröffentlichungen in referierten Zeitschriften zu forschungsrelevanten Ar-beiten an kommerziellen 2-Photonen-Lithografieanlagen und/oder b. die nachvollziehbare Bestätigung von Kunden bzw. Projektpartnern der kommerziell erhältlichen 2-Photonen-Lithografieanlage des Anbieters in Form von Abnahmeprotokollen von an Kunden ausgelieferten Geräten (in diesem Fall ist Anonymisierung erlaubt). Die Eignungskriterien werden näher in Anlage 7 der Vergabeunterlagen beschrieben.usedfalsenot-allowedeu-fundsfalsenot-allowedST-02/2024-23301920non-restricted-documentDEUhttps://www.evergabe-online.de/tenderdocuments.html?id=706206Das Projekt wird aus Mitteln der Europäischen Union finanziert. Drittmittelförderung durch die Thüringer Aufbaubank – EFRE-Programm 2021-2027 Thüringen Fkz.: 2023 IZN 0006 Dem Auftraggeber stehen max. 558.000,00 EUR inkl. aller anfallenden Steuern zur Verfügung.nonelate-allNachforderung von Unterlagen entsprechend der Vorgaben von § 56 VgVnorequirednot-allowedqualityTechnische Spezifikation & Funktionsumfang, Begleitleistungen: 70 %Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium. Alle Kriterien sind in einer detaillierten Bewertungsmatrix in Anlage 6 der Vergabeunterlagen aufgeführt.pricePreis (inkl. aller anfallenden Steuern): 30 %Der Preis ist nicht das einzige Zuschlagskriterium. Alle Kriterien sind in einer detaillierten Bewertungsmatrix in Anlage 6 der Vergabeunterlagen aufgeführt.ORG-0000ORG-0000ORG-0000ORG-00004Kontaktstelle für Beanstandungen ist das Justiziariat der Ernst-Abbe-Hochschule Jena Anschrift: Carl-Zeiss-Promenade 2, 07745 Jena E-Mail: vergabestelle@eah-jena.de Beanstandungen können vom Bieter nur innerhalb einer Frist von zehn Kalendertagen nach Kenntnis eines Verstoßes der Vergabestelle gegen Vergabevorschriften gerügt werden. Die Rüge von Verstößen gegen Vergabevorschriften, die aufgrund der Bekanntmachung oder erst in den Vergabeunterlagen erkennbar sind, können nach Ablauf der Angebotsabgabefrist nicht mehr gerügt werden. Hilft die Vergabestelle einer Rüge des Bieters nicht ab, ist dieser innerhalb einer Frist von 15 Kalendertagen berechtigt, Antrag bei der Nachprüfungsstelle auf ein Nachprüfungsverfahren zu stellen. Das Nachprüfungsverfahren bestimmt sich nach den Vorschriften der §§ 155 ff. GWB.ORG-0001DEUENGtruetruerequiredfalse2024-09-05+02:0010:00:00+02:002024-08-05+02:002024-09-05+02:0010:15:00+02:00falsenonenoneST-02/2024-23301920Lieferung einer 2-Photonen-Lithografieanlage gemäß den Anforderungen der Leistungsbeschreibung (Anlage 1 der Vergabeunterlagen)Lieferung einer 2-Photonen-Lithografieanlage gemäß den Anforderungen der Leistungsbeschreibung (Anlage 1 der Vergabeunterlagen): - voll funktionsfähiges Laserlithografie-Gesamtsystem, basierend auf der Zwei-Photonen- Polymerisation (2PP), geeignet zur Herstellung dreidimensionaler und „hoher“ Oberflächenrelief-Strukturen (2,5-D Strukturen); insbesondere zur Erzeugung optisch funktionaler Strukturen und Elemente; - Integrierter Femtosekundenlaser; - Hochpräzise Strahl-Scan-Einrichtung; - Substrataufnahme und Positioniereinrichtung für das Substrat; - Prozesskamera zur Beobachtung des lithografischen Schreibprozesses; - Software für den Import von Strukturdaten zur Vorbereitung des 3D- bzw. 2,5D-Drucks und zur Übergabe der Daten an die Anlage; - Soft- und Hardware zum Betrieb der Gesamtanlage (inkl. Justierung, Kalibrierung, Steue-rung und Kontrolle der Anlage, sowie zur Dokumentation der Prozessparameter); - Vermeidung von Diskretisierungsstufen: anlagen- und softwarespezifische Möglichkeit zur Herstellung ‚glatter‘ (2,5D-) kontinuierlicher Oberflächen-Reliefstrukturen; - Anlagen- und softwarespezifische Möglichkeit zum Ausgleich von Substratneigungen („Tilt-Ausgleich“); - Mikroskopobjektiv, welches gleichzeitig eine hohe laterale und axiale Auflösung, ein gro-ßes Schreibfeld und einen großen Arbeitsabstand gewährleistet; - Erweiterungsmöglichkeiten, um sowohl größere Schreibbereiche bei geringerer Auflösung als auch eine höhere Auflösung bei kleineren Schreibbereichen vorzusehen; - Erweiterungsmöglichkeit zur Strukturierung der Endflächen optischer Fasern (Faser-Fa-cetten), wobei eine präzise Ausrichtung der Schreibbereiche relativ zur Fasergeometrie gewährleistet sein muss; - Dokumentation, Installation, Schulung.supplies#Besonders geeignet für:selbst# #Besonders geeignet für:selbst#truenone46900042990000Carl-Zeiss-Promenade 2Jena07745DEG03DEU