16 https://www.pfm.uzh.ch/de/fachstellen/assetmanagement.html ORG-0001 Universität Zürich Assetmanagement Pfingstweidstrasse 60B Zürich 8005 CH040 CHE bb7565aa-cc41-44fe-962a-a5e38dafce97 +41446342973 ausschreibungen@pfm.uzh.ch https://www.bvger.ch ORG-0002 Bundesverwaltungsgericht Postfach St. Gallen 9023 CH055 CHE BVGER +41584652626 info@bvger.admin.ch https://www.simap.ch ORG-0003 Simap.ch Holzikofenweg 36 Bern 3003 CH021 CHE CH001 +41584646388 support@simap.ch 00761083-2024242/20242024-12-12+01:00 2.3 eforms-sdk-1.10 098afbd3-62f4-4b32-a157-db5460c59282 13739739-fdca-4487-9a8d-6945407fe36c 2024-12-11+01:00 02:26:00+01:00 01 32014L0024 cn-standard DEU body-pl-ra education ORG-0001 ted-esen ORG-0003 nati-ground Weitere Angaben in der offiziellen Publikation auf simap.ch open true Weitere Angaben in der offiziellen Publikation auf simap.ch 13739739-fdca-4487-9a8d-6945407fe36c UHV cluster for Pulsed Laser Deposition and Sputtering of epitaxial quantum materials (PLD-SP-CL) Das Physik-Institut plant die Beschaffung eines UHV-Clusters für gepulste Laserabscheidung und Sputtern (PLD-SP-CL) von epitaktischen Heterostrukturen mit Monolagen-Präzision. Das System wird die Materialsynthese auf Oxid-Substraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm² ermöglichen. Die PLD- und Sputterkammern müssen Basisdrücke < 10⁻⁷ mbar aufweisen und über eine Schleusenkammer für einen schnellen Probenaustausch zugänglich sein. Die PLD- und Sputterkammern müssen für den Probentransfer im Vakuum miteinander verbunden sein. Die PLD muss über in-situ RHEED zur Wachstumsüberwachung verfügen und Substrat-Temperaturen von mindestens 950°C ermöglichen. Die Sputteranlage ermöglicht das DC-Magnetron-Sputtern bei einer Substrattemperatur von bis zu 700°C. Das System muss mit der Verwendung von flag-style-type- Probenträgern und dem Transfer zu einem extern bereitgestellten Vakuumkoffer für den Transport zu anderen Ex-situ-Charakterisierungsgeräten kompatibel sein. The Physics Institute plans the procurement of a UHV cluster for pulsed laser deposition and sputtering (PLD-SP-CL) of epitaxial heterostructures with monolayer precision. The system will enable materials synthesis on oxide substrates up to 10 x 10 mm² in area. The PLD and sputter chambers must have base pressures < 10⁻⁷ mbar, and must be accessible through a loadlock chamber for rapid sample exchange. The PLD and sputter deposition chambers must be interconnected for in-vacuum sample transfer. The PLD must have in-situ RHEED for growth monitoring and allow substrate temperatures up to at least 950°C. The sputter will allow for DC magnetron sputtering at substrate temperature up to 700°C. The system must be compatible with the use of flag-style-type sample carrier plates and transfer to an externally provided vacuum suitcase for transport to other ex-situ characterization tools. supplies 38000000 LOT-0000 ef-stand Wie in den Ausschreibungsunterlagen auf simap.ch festgehalten. used sui-act Wie in den Ausschreibungsunterlagen auf simap.ch festgehalten. used tp-abil Wie in den Ausschreibungsunterlagen auf simap.ch festgehalten. used allowed no-eu-funds nyk not-allowed false 1 restricted-document https://www.simap.ch/de/redirect?context=eyJwYWdlIjoicHJvamVjdCIsInJvbGUiOm51bGwsIm9yZ0lkIjpudWxsLCJwcm9qZWN0SWQiOiIxMzczOTczOS1mZGNhLTQ0ODctOWE4ZC02OTQ1NDA3ZmUzNmMiLCJsb3RJZCI6bnVsbCwic3Vic2NyaXB0aW9uSWQiOm51bGx9 Weitere Angaben in der offiziellen Publikation auf simap.ch none false not-known performance Weitere Angaben in der offiziellen Publikation auf simap.ch required not-allowed false Die Zuschlagskriterien sind in den Dokumenten definiert. quality Zuschlagskriterien ORG-0001 Rechtsmittelbelehrung Gegen diese Ausschreibung kann innert 20 Tagen, von der Publikation an gerechnet, beim Verwaltungsgericht des Kantons Zürich, Freischützgasse 1, Postfach, 8090 Zürich, schriftlich Beschwerde eingereicht werden. Die Beschwerdeschrift ist im Doppel einzureichen. Sie muss einen Antrag und dessen Begründung enthalten. Die angefochtene Ausschreibung ist beizulegen. Die angerufenen Beweismittel sind genau zu bezeichnen und, soweit möglich, beizulegen. ORG-0002 ENG false true Simap.ch not-allowed true 2025-01-29+01:00 12:00:00+01:00 false none none 098afbd3-62f4-4b32-a157-db5460c59282 UHV cluster for Pulsed Laser Deposition and Sputtering of epitaxial quantum materials (PLD-SP-CL) Das Physik-Institut plant die Beschaffung eines UHV-Clusters für gepulste Laserabscheidung und Sputtern (PLD-SP-CL) von epitaktischen Heterostrukturen mit Monolagen-Präzision. Das System wird die Materialsynthese auf Oxid-Substraten mit einer Fläche von bis zu 10 x 10 mm² ermöglichen. Die PLD- und Sputterkammern müssen Basisdrücke < 10⁻⁷ mbar aufweisen und über eine Schleusenkammer für einen schnellen Probenaustausch zugänglich sein. Die PLD- und Sputterkammern müssen für den Probentransfer im Vakuum miteinander verbunden sein. Die PLD muss über in-situ RHEED zur Wachstumsüberwachung verfügen und Substrat-Temperaturen von mindestens 950°C ermöglichen. Die Sputteranlage ermöglicht das DC-Magnetron-Sputtern bei einer Substrattemperatur von bis zu 700°C. Das System muss mit der Verwendung von flag-style-type- Probenträgern und dem Transfer zu einem extern bereitgestellten Vakuumkoffer für den Transport zu anderen Ex-situ-Charakterisierungsgeräten kompatibel sein. The Physics Institute plans the procurement of a UHV cluster for pulsed laser deposition and sputtering (PLD-SP-CL) of epitaxial heterostructures with monolayer precision. The system will enable materials synthesis on oxide substrates up to 10 x 10 mm² in area. The PLD and sputter chambers must have base pressures < 10⁻⁷ mbar, and must be accessible through a loadlock chamber for rapid sample exchange. The PLD and sputter deposition chambers must be interconnected for in-vacuum sample transfer. The PLD must have in-situ RHEED for growth monitoring and allow substrate temperatures up to at least 950°C. The sputter will allow for DC magnetron sputtering at substrate temperature up to 700°C. The system must be compatible with the use of flag-style-type sample carrier plates and transfer to an externally provided vacuum suitcase for transport to other ex-situ characterization tools. supplies 38000000 Zürich 8057 CH040 CHE 1800 Siehe Ausschreibungsunterlagen 0