Il s’agit de caractériser des échantillons de type substrats, couches minces, empilements ou dispositifs, par l’intermédiaire des techniques analytiques suivantes :
- RBS (Rutherford Backscattering Spectrometry), en mode standard ou en canalisation,
- NRA (Nuclear Reaction Analysis),
- ERDA (Elastic Recoil Detection Analysis),
- PIXE (Particle Induced X-Ray Emission).
La mise au point de ces matériaux et dispositifs à l’échelle nanométrique requiert des outils d’investigation performants, en particulier dans leur capacité à accompagner la tendance générale à la miniaturisation. L’analyse par faisceaux d’ions fait partie de ces moyens et fournit des renseignements de nature chimique et structurale, parmi lesquels :
- la quantification des éléments chimiques,
- leur distribution en profondeur (profils de concentration),
- le dosage des éléments légers, et notamment l’hydrogène,
- l’évaluation de la qualité cristalline de substrats ou de couches épitaxiées,
- la localisation de défauts cristallins et d’espèces implantées.
Le nombre annuel de mesures à réaliser est estimé à 150.
Les éléments quantitatifs mentionnés sont des ordres de grandeur qui n’ont pas de valeurs contractuelle.